偏振光学实验的误差分析 两偏振片与激光不垂直；激光器发出的光未调成平行光；预热时间不够，激光不稳定；读数误差，都可能导致最后的误差
跪求用椭圆偏振法测量薄膜厚度及折射率的实验数据 椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率在现代科学技术中，薄膜有着广泛的应用.因此测量薄膜的技术也有了很大的发展，椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一.椭偏法测量具有如下特点：能测量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2个数量级.是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其它精密方法：如称重法、定量化学分析法简便.可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数.因此可以作为分析工具使用.对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感.是研究表面物理的一种方法椭偏仪的光路图椭偏仪的基本原理入射光的P分量入射光的S分量反射光的P分量和S分量的比值—椭圆参量r=RP/Rs=tanyexp(iD)=f(n1，n2，n3，f1，d，l）
薄膜厚度静态和动态监测方法分别有哪些？ 薄膜厚度和沉积率的2113实时监测主要有哪些方法5261最佳答案真空镀4102膜就是置待镀材料和被1653镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。一、镀膜的方法及分类在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。主要分为一下几类：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的。
