氢氟酸和硅反应的离子方程式是什么 氢氟bai酸和硅反应的离子方程式是：Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面du加气体符号zhi）氢氟酸是dao氟化氢气体的水溶版液，清澈，无色、发烟的腐权蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点112.2℃，密度0.888g/cm3。易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。
硅与氟化氢的反应方程式 Si+4HF=SiF4↑+2H2↑
(1)二氧化硅与氢氟酸反应化学方程式和离子方程式-没区别。（2）SiO2+4HF=SiF4+2H2OOK。
