砷化氢是整样形成的？ 工业上用于有机合成、军用毒气、科研或某些特殊实验中。而是生产过程中的副反应产物或环境中自然形成的污染物。只要有砷和新生态氢同时存在，就能产生砷化氢。在工业生产中，夹杂砷的金属与酸作用，含砷矿石冶炼储存接触潮湿空气或用水浇含砷矿石的热炉渣均可形成砷化氢。
砷化氢的 化学性质不稳定，是强还原剂，介于PH3及SbH3之间。加热至300℃时分解。在空气中加热时易燃烧生成砷的氧化物和水，在有限供氧时，生成单质砷和水。热分解与一些较重的氢化物。
砷化氢的化学性质 AsH3的化学性质介于PH3及SbH3之间。与一些较重的氢化物一样（例如SbH3、H2Te和SnH4），AsH3不稳定（动力学上较稳定，但热力学上不稳定）。2AsH3—→3H2+2As分解反应是马氏试砷法的基础（见下文）。仍以SbH3作比较，AsH3易被O2或空气氧化：2AsH3+3O2→As2O3+3H2O砷化氢与强氧化剂（例如高锰酸钾、次氯酸钠或硝酸等）剧烈反应。[1]As-H键有酸性，可被去质子化。这个性质经常被利用：AsH3+NaNH2→NaAsH2+NH3AsH3与三烷基铝发生相应的反应时，会生成三聚物[R2AlAsH2]3，当中的R=(CH3)3C。[6]此反应与利用AsH3制备GaAs的反应机理有关，见下。一般认为AsH3是非碱性的，但可被超酸质子化，生成四面体形离子[AsH4]。[7]砷烷用于半导体工业中外延硅的n型掺杂；硅中n型扩散；离子注入；生长砷化镓(GaAs)、磷砷化镓(GaAsP)以及与III/V族元素形成化合物半导体。AsH3可用于合成与微电子学及固态雷射有关的半导体材料。与磷相似，砷是硅及锗的n-掺染物。[1]更重要的用途是以AsH3为原料，在700-900°C通过化学气相沉积来制造半导体材料砷化镓（GaAs）：Ga(CH3)3+AsH3→GaAs+3CH4 AsH3在司法科学中亦非常著名，因为它可用于砷中毒的探测。旧的（但特别敏感的）马氏试砷法样品中含砷时便。
