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为什么沉积氮化硅薄膜时要通氮气 cvd法硅烷同六氟化钨反应

2021-04-04知识3

四乙氧基硅烷的产品用途 主要用作光学玻璃、耐化学品涂料及耐热涂料和粘合剂 主要用作光学玻璃、耐化学品涂料及耐热涂料和粘合剂。还应用CVD和Sol-Gel法制备SiO2和含有SiO2组分的多组分氧化物。。

工业制硅的化工工艺流程? 纯净的硅(Si)是从自然界中的石英矿石(主要成分二氧化硅)中提取出来的,分几步反应:1.二氧化硅和炭粉在高温条件下反应,生成粗硅:SiO2+2C=Si(粗)+2CO 2.粗硅和氯气在高温条件。

应采用何种技术可在石墨材料上镀一层碳化硅薄膜? 用三氯甲基硅烷在CVD炉子内受热分解和石墨反应生成碳化硅薄膜。网页 微信 知乎 图片 视频 明医 科学 汉语 英文 问问 学术 更多? 。? 2021SOGOU.COM 京ICP证050897号

#cvd法硅烷同六氟化钨反应

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