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DZS 500型电子束蒸发设备说明 电子束蒸发装置示意图

2021-03-26知识3

电子束焊的工作原理 高压电源的系统框图如图1所示,电网电压经过流抑制电路进入高压升压整流变压器的一次,二次升压到100kV左右。此交流高压再经12相整流滤波获得160kV左右的直流高压,加到。

请介绍一下:电子束蒸发镀膜机的结构组成 只能找到2113这个,希望对你有帮助。5261应用领域:蒸发系列卷绕镀膜设备主要用于在塑4102料、布1653、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点结构特点:1、卷饶系统采用高精度支流或交流变频调速,具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤、不折皱,收卷端面征集等特点;2、张力控制采用进口数字张力控制系统,具有张力、线速度恒定,动作快速的特点;3、各组送丝由微机电机独立控制,可总调或单独调速,并有速度显示;4、真空系统配置精良,抽气速度快,采用PLC控制;5、配备大功率电源,镀膜效率高,膜层均匀性好。ZJR-1400主要技术参数:1、真空室尺寸:Φ1400mm2、极限真空(空载、干燥、洁净):上室1×10-1pa;下室7×10-3pa3、恢复真空时间(空载、干燥、洁净):从大气抽到6.7×10-1pa≤8min4、最大可镀幅宽:800mm5、最大卷径:Φ500mm6、镀膜速度:120~200m/min7、蒸发材料:Φ1.5mm铝丝(纯度99.95%)8、可镀材料:PET、PVC、CPP、BOPP、OPP9、蒸发器:9只BN坩埚(110×24×10)10、每组。

电子束管的组成 电子束管的主要组成部分有玻壳、电子枪、偏转系统、荧光屏和靶。玻壳 电子束管几乎都用玻璃管壳。玻壳内保持10-5~5×10-5帕的真空度。摄像管的玻壳多用多硼玻璃,黑白显像管的玻壳则用钡锂玻璃等。电子枪 除宽电子束管仅有电子光学聚焦系统外,其余的电子束管都装有电子枪。电子枪的典型结构如图2。电子枪包括发射系统和聚焦系统。前者包括热丝加热的阴极、控制栅极和第一阳极(或加速极)。这三极间的电场分布形成一个电子透镜。阴极发射的电子先收敛而后发散,在交界处形成一个交叉截面(图2)。聚焦系统分静电聚焦和磁聚焦两种。它的作用是将交叉截面成像到荧光屏上产生光点。常用的磁透镜是短磁透镜,由套在管颈外的聚焦线圈组成。适当地调节聚焦线圈内的电流就可将电子束聚焦在荧光屏上,形成一个明亮的光点。而摄像管则用长磁透镜。偏转系统 分静电偏转系统和磁偏转系统两种。静电偏转系统利用静电场对运动电子的作用而产生偏转作用。它由两对相互垂直的偏转板组成,一对使电子束水平偏转,另一对使电子束垂直偏转。磁偏转系统利用磁场对运动电子的作用而产生偏转作用。磁偏转采用两对相互垂直的偏转线圈,能使电子束产生水平和垂直偏转。在静电偏转的示波管。

真空蒸发镀膜的形成机理有哪几种

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什么是真空镀膜技术? 所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。一、镀膜的方法及分类 。

据说现在的场致发射可以产生强流离子束,电子束,电束流达几百安培到数万安培,不知其原理是怎样的 据说现在的场致发射可以产生强流离子束,电子束,电束流达几百安培到数。

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