四氟化硅的化学反应 四氟化硅在潮湿的空百气中因水解而产生烟雾，生成硅酸和氟化氢。度二氧化硅与氢氟酸反应知则生成气态四氟化硅：SiO2(s)+4 HF(aq)→SiF4(g)+2 H2O(l)与碳酸钠溶液道发生不完全水解反应：3SiF4+2Na2CO3+2H2O=H4SiO4↓+2Na2SiF6↓+2CO2与 氢氧化钠反应较为专彻底；SiF4+6NaOH=Na2SiO3+4NaF+3H2O与氢氟酸生成氟硅酸（六氟合硅酸）SiF4+2HF=H2SiF6后者为强酸，属酸性与硫酸相当。
硅怎样生成四氟化硅 比较实际的是Si+2H2O2+4HF＝SiF4+4H2O
四氟化硅如何变成硅单质 1950 年制出第一只硅晶体管，提高了人 们制备优质硅单晶的兴趣.年用直拉法(CZ)(CZ)培育硅单晶成 们制备优质硅单晶的兴趣.1952 年用直拉法(CZ)培育硅单晶成 年又研究出无坩埚区域熔化法(FZ)(FZ)，功.1953 年又研究出无坩埚区域熔化法(FZ)，既可进行物理提 纯又能拉制单晶.年开始采用锌还原四氯化硅法生产纯硅 采用锌还原四氯化硅法生产纯硅，纯又能拉制单晶.1955 年开始采用锌还原四氯化硅法生产纯硅，但不能满足制造晶体管的要求.但不能满足制造晶体管的要求.1956 年研究成功氢还原三氯氢 硅法.氢还原三氯氢 硅法.对硅中微量杂质又经过一段时间的探索后，对硅中微量杂质又经过一段时间的探索后，硅法成为一种主要的方法.硅法成为一种主要的方法.到 1960 年，用这种方法进行工业生 产已具规模.硅整流器与硅闸流管的问世促使硅材料的生产一跃 产已具规模.而居半导体材料的首位.而居半导体材料的首位.60 年代硅外延生长单晶技术和硅平面 工艺的出现，不但使硅晶体管制造技术趋于成熟，而且促使集成 工艺的出现，不但使硅晶体管制造技术趋于成熟，电路迅速发展.电路迅速发展.80 年代初全世界多晶硅产量已达 2500 吨
硅怎样生成四氟化硅 Si+2F2->；SiF4
怎么才能吧氟化硅从结晶状态变成游离状态 氟化硅常温下是气体 而且熔点-90.2℃ 常温常压下不可能凝固你所遇到的问题 可能是氟化硅与空气中的水反应 水解生成了氟硅酸 二氧化硅或者硅酸 才使管道阻塞将产物干燥应该可以
四氟化硅制取硅 可以一步反应，2113用氢气还原即5261可SiF4+2H2=4HF+Si(由于反应物皆4102为气体，则须标注沉淀1653符号)条件是高温，原理内类似于四氯容化硅的还原产物中 氟化氢与单质硅 在该条件下极难反应，可以认为不存在可逆反应但是在反应体系中加入一点HNO3，则会让反应发生逆转
