如何镀金 镀膜的方法很多,分类方法也各不一样。按膜层的形成方法来分类,可以分为干式镀膜和湿式镀膜。干式镀膜是指在真空的条件下,应用物理或化学的方法,将材料气化成原子、分子。真空加热炉的工作原理 加热炉 以相变换热方式工作.在一个无不凝结气体的密闭容器中,中间介质吸收燃料燃烧产生的热量后汽化成气态并进入气相空间,在气相空间将汽化潜热传递给冷凝换热器盘管内的工质(如水、原油或天然气等)后,冷凝成液体回落到液相空间,再次被燃料燃烧加热蒸发.工质不断带走中间介质传递的气化潜热,燃料燃烧后不断供给中间介质燃烧热量,从而形成动态热平衡。真空抽气机的工作原理 射水抽气器一:产品用途及优点节能型射水抽气器用于火力发电厂汽轮组抽吸凝汽器真空和其它需要抽真空的专用设备。新型射水抽气器优点为:1、抽吸能力强,安全裕量大,电机耗功低。2、寿命长,抽吸内效率不受运行时间影响,检修间隔期长。3、启动性好,无需另配辅抽。对工作水所含杂质的质量浓度及体积浓度要求低。4、该抽气器喉管出口设置余速抽气器,可同时供汽机抽吸轴封加热器之不凝结气体。5、因无气相偏流,所以运行中震动磨损极小。二:结构原理新型射水抽气器结构原理打破了传统的水、气垂直交错流动的设计模式,大家知道气相运动所需能量全来自水束,那么要让水质点裹胁更多的气体来提高凝汽器真空,保证安全运行就必须:1、在吸入室中选取水的最佳流速及单股水束的最佳截面,以期水束能实现最佳分散度,同时分散后的水质点又具最佳动量,以最小的水量裹胁最多的气体,这是达到低耗高效的起码条件。2、吸入室内水质点与空气的接触达到最均匀。且使水束所裹胁的气体能全部压入喉管。3、制止初始段的气相返流偏流,以免造成冲击四壁而发生震动磨损。这一点单靠加长喉管是难以实现的。这是吸入室几何结构,喉口形状,喉径喷咀面积比,喉长喉咀径比,进水。物理气相沉积法有什么特征? 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但在最近30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术。并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,。为什么说真空是气相法制备薄膜的基础 气相法制备薄膜需要在真空的环境里才能实现,所以真空技术是基础。气相沉积制备薄膜,在大气的环境无法实现的,看看制备工艺方法就清楚了。射水抽气器的工作原理 工作原理:从射水泵来的具有一定压力的工作水经水室进入喷嘴,喷嘴将压力水的压力能转变为速度能,水流高速从喷嘴射出,使空气吸入室内产生高度真空,抽出凝汽器内的汽、气混合物,一起进入扩散管,水流速度减慢,压力逐渐升高,最后以略高于大气压力排出扩散管。补充:射水抽气器优点为:1、抽吸能力强,安全裕量大,电机耗功低。2、寿命长,抽吸内效率不受运行时间影响,检修间隔期长。3、启动性好,无需另配辅抽。对工作水所含杂质的质量浓度及体积浓度要求低。4、该抽气器喉管出口设置余速抽气器,可同时供汽机抽吸轴封加热器之不凝结气体。5、因无气相偏流,所以运行中震动磨损极小。注意事项:1、在吸入室中选取水的最佳流速及单股水束的最佳截面,以期水束能实e5a48de588b67a6431333337386663现最佳分散度,同时分散后的水质点又具最佳动量,以最小的水量裹胁最多的气体,这是达到低耗高效的起码条件。2、吸入室内水质点与空气的接触达到最均匀。且使水束所裹胁的气体能全部压入喉管。3、制止初始段的气相返流偏流,以免造成冲击四壁而发生震动磨损。这一点单靠加长喉管是难以实现的。这是吸入室几何结构,喉口形状,喉径喷咀面积比,喉长喉咀径比,进水。气相色谱分离的基本原理 气相色谱2113分离的基本原理是利用涂在载体或5261者毛细管壁上的固定液,4102通过对不同物质的吸1653附和解吸能力来进行分离的。气体带着样品蒸汽,在固定液中不停的吸附和解吸,吸附能力强的样品,保留时间长,吸附能力弱的样品保留时间短。来完成不同物质的分离。一般非极性或低极性的固定液,是按照样品的沸点来进行分离的,沸点越高,保留时间越长。极性的固定液,除沸点外,样品的极性对保留时间的影响也非常大。极性的样品,在极性固定液中的溶解能力大大高于非极性样品,保留时间会大大延长。PECVD工作原理是什么? 1PECVD工艺的基本原理PECVD技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的工艺气体,这些气体经一系列化学反应和等离子体反应,最终在样品表面形成固态薄膜。其工艺原理示意图如图1所示。在反应过程中,反应气体从进气口进入炉腔,逐渐扩散至样品表面,在射频源激发的电场作用下,反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应,生成形成膜的初始成分和副反应物,这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面,生成固态膜的晶核,晶核逐渐生长成岛状物,岛状物继续生长成连续的薄膜。在薄膜生长过程中,各种副产物从膜的表面逐渐脱离,在真空泵的作用下从出口排出。2.2PECVD设备的基本结构PECVD设备主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。其设备结构框图如图2所示。2.2.1真空和压力控制系统真空和压力控制系统包括机械泵、分子泵、粗抽阀、前级阀、闸板阀、真空计等。为了减少氮e69da5e887aa7a686964616f31333365646262气、氧气以及水蒸气对淀积工艺的影响,真空系统一般。有人可以帮我介绍一下真空回流焊吗? 真空回流焊的焊接系统是在相对密闭同时有真空辅助的条件下进复行焊接的,而这种焊接系统恰恰对产制品质量有很好的优势,在此条件下真空回流焊能够通过高效排出焊料中助焊剂挥知发时产生的气泡,使产品焊接面的空洞率有效降低,从而有效地提道高了产品的焊接质量
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