用正性光刻胶代替负性光刻胶要做哪些调整 掩膜的设计要反过来~另外要考虑刻蚀展宽的方向也不同了~
工业除胶剂的主要作用是什么？ 工业除胶剂主要是用来去除加工过程中的残胶，适用于 LCD 前段加工过程中的 ITO 玻璃清洗和光刻胶清洗、3C 产品触摸屏清洗，对玻璃基板、ITO膜均无腐蚀，对油污、指纹、灰尘及金属颗粒等污染物质具有较强的络合、剥离性能。特别适用于清洗蓝宝石、玻璃表面残胶。
前辈好！请问蚀刻剂 剥离剂 显影液都是什么 起什么作用能帮我介绍下吗 前辈好！请问蚀刻剂剥离剂显影液都是什么起什么作用能帮我介绍下吗万分感谢！氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻？
正型光刻胶和负型光刻胶的区别 最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液；负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask，正胶和负胶曝光显影后图形是相反的
正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊？
