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美光正式推出第五代 3D NAND 堆叠层数达到 176 层

2020-11-10新闻20

现在市面是的SSD都采用了3DNAND存储技术,与2DNAND相比,3DNAND能够实现更高的容量和性能、更低的功耗和成本,这也是为什么众多厂商都在积极研发和推出更高层数的3DNAND产品。而全球闪存大厂美光近期宣告了自己最新的第五代3DNAND闪存技术,堆叠层数达到176层。

美光176层NAND支持的接口速度为1600MT/s,高于其96层和128层闪存的1200MT/s。与96LNAND,相比之下,读写延迟降低了35%以上,与128LNAND相比,降低了25%以上。与使用96LNAND的UFS3.1模块相比,美光芯片的总体混合工作负载降低了约15%。

美光表示其176层3DNAND已开始批量生产,并已在某些英睿达的消费级SSD产品中出货。

而其他厂商,三星正在开发176层第七代V-NAND,计划明年4月实现量产,SK海力士也正在进行176层3DNAND的研发。至于英特尔,之前是计划在今年年底实现更高层数144层产品的量产,但不知道英特尔出售闪存业务是否会影响到技术量产。

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