据《科创板日报》，荷兰光刻机制造商阿斯麦 ASML 近日公布了全新EUV(极紫外光刻机)TWINSCAN NXE:3600D最终规格。具体来说，30mJ/cm2 的曝光速度达到每小时曝光 160 片晶圆，提高了 18% 的生产率，并改进机器匹配套准精度至 1.1 纳米，计划于 2021 年的中期开始发货，价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。
极紫外光刻机已经成为7nm以下制程的关键了，目前全球只有 能供应。台积电、三星这两大芯片代工商的制程工艺都已提升到了7nm和5nm，他们所需要的极紫外光刻机也全部仰仗于ASML ，全新的TWINSCAN NXE:3600D的首台，预计也会交由这两家代工商中的一家。
目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可处理125片晶圆。而3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。
另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证，四季度早期开始正式出货。
日前，ASML公布了截止9月30日的三季度财报：当季销售额为 40 亿欧元，净利润 11 亿欧元（约合87亿元人民币），毛利率 47.5%，净利率 27.5%。此外，ASML第三季度还新增订单 29 亿欧元。
ASML预估四季度的收入在36到38亿欧元，毛利率50%左右，2020全年的营收应该至少能达到133亿欧元。
同时外媒报道，ASML 向客户交付并可确认收入的光刻机达 60 台，总额31亿欧元。其中，14 台为极紫外光刻机，较上一季度增加 7 台，但整体的交付量较上一季度减少了 1 台。
地区方面，中国台湾贡献了光刻机收入的47%，看来台积电支付了一大笔EUV机器的货款。韩国厂商贡献了26%，中国大陆企业贡献了21%。
（编辑：崔丽容）
