请问在半导体工艺中，光刻后进行电镀，电镀后去除光刻胶后有一步lega treatment 什么意思？ 在半导体工艺中，光课后进行电镀电镀后，去除光刻胶后有一步。
如何有效去除负性光刻胶剥离液残留？ 这是应当用软件的
光刻胶 正胶150度烘烤还可以去除么
固化后的负性光刻胶如何去除 这个主要看光刻胶的溶解特性，提出针对性的脱膜方法。有的用碱的水溶液可以脱膜，也有用有机溶剂
光刻胶都有哪几种？ 都用在哪些工艺？光刻胶去除剂又有几种？ 丙二醇甲醚醋酸酯等半导体等NaCO3等
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