薄膜厚度只能用椭圆偏振光谱测吗 大于0.5m时.这种技术工作良好.然而对于32 nm节点.材料的厚度预计只有100nm的.出来用于测量金属薄膜的密度.它 利用激光器将一个弱的脉冲打到薄膜上从而产 生
薄膜厚度测量的薄膜厚度的测量方法 随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度的测量方法有很多，按照测量的方式分可以分为两类：直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器，通过接触（或光接触）直接感应出薄膜的厚度，常见的直接法测量有：螺旋测微法、精密轮廓扫描法（台阶法）、扫描电子显微法（SEM）；间接测量指根据一定对应的物理关系，将相关的物理量经过计算转化为薄膜的厚度，从而达到测量薄膜厚度的目的。常见的间接法测量有：称量法、电容法、电阻法、等厚干涉法、变角干涉法、椭圆偏振法。按照测量的原理可分为三类：称量法、电学法、光学法。常见的称量法有：天平法、石英法、原子数测定法；常见的电学法有：电阻法、电容法、涡流法；常见的光学方法有：等厚干涉法、变角干涉法、光吸收法、椭圆偏振法。向左转|向右转
椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
小于10nm的SiO2薄膜厚度怎样准确测量？
椭圆偏振和反射法测试膜厚方法的区别选用Si3N4薄膜和Zr O薄膜两种光学材料作为测试对象以研究椭圆偏振法测量薄膜厚度的精度。实验结果表明，椭圆偏振法的精度较高，但对于数量级在几十个nm的光学薄
