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薄栅氧化层带来问题 晶体管速度是否已经达到极限?

2020-10-11知识3

新工艺带来晶体管性能提升都用在了哪些方面? 从45纳米到现在的14纳米,晶体管截止频率应该至少提升了3倍吧。但处理器的时钟频率却基本没有大提高。这…

薄栅氧化层带来问题 晶体管速度是否已经达到极限?

三极管,MOSFET, IGBT的区别? http:// weixin.qq.com/r/Uy-L03P ExS66rTew93pB(二维码自动识别) ? 99 ? ? 5 条评论 ? ? ? 喜欢 ? 继续浏览内容 知乎 发现更大的世界 打开 。

薄栅氧化层带来问题 晶体管速度是否已经达到极限?

晶体管速度是否已经达到极限? 处理器频率没有上涨的另一个主要原因很简单,就是晶体管本身并没有变得更快。为什么CPU时钟频率在过去5年…

薄栅氧化层带来问题 晶体管速度是否已经达到极限?

为什么栅氧化层比较薄 氧化层相当于结电容的介质,根据平板电容容量的公式Cj=εS/d,d是介质的厚度,可以看出结电容容量跟介质厚度成反比,氧化层越薄电容量越大,相同栅极电压存储的电荷Qg=CV也。

EOS失效机理情况汇总,集成电路EOS失效机理分析方案 静电损伤(ESD):微电子器件在加工生产、组装、贮存以及运输过程中,可能与带静电的容器、测试设备及操作人员相接触,所。

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