氢氟酸和硅反应的离子方程式是什么 氢氟酸和硅反应的离子方程式是：Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面加气体符号）氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点112.2℃，密度0.888g/cm3。易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。
硅跟氢氟酸反应吗？ Si+4HF=SiF4↑+2H2↑如果氢氟酸浓度较大，生成的四氟化硅会形成氟硅酸（H2SiF6）离子方程式为Si+6HF=2H+SiF6（2-）+2H2↑
氢氟酸与二氧化硅反应生成四氟化硅气体和水的化学方程式 4HF+SiO2=SiF4+2H2O
氢氟酸与硅的反应为何不是离子方程式？什么是离子方程式？ 因为离子反应必须有离子，而氢氟酸与硅反应生成四氟化硅和H2，反应物和生成物都没有离子，不是离子反应，所以没有离子方程式.化学方程式：Si+4HF=SiF4+2H2离子方程式是：用实际参加反应的离子符号表示的式子叫离子方程式.例：NaOH与盐酸反应，离子方程式：H+OH-=H2O
氢氟酸与二氧化硅发生反应，生成四氟化硅气体和水，该反应的化学方程式为 4HF+SiO2=SiF4+2H2O
