正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊？
光刻胶正胶与酒精反应吗 经过光反应后部分可以溶解，可以通过飞秒检测鉴定其结构和变化，正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏化合，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
前辈好！请问蚀刻剂 剥离剂 显影液都是什么 起什么作用能帮我介绍下吗 氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。特性：外观-深琥珀色蚀刻率（室温25°C）-15-20 ？/sec（浸没）工作温度-40-50 °C漂洗-去离子水存储-20-25 °C有效期-一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负性光刻胶使用，1020 为渗入型，最小蚀刻尺寸达到0.2微米，1020AC可完成微细凹槽蚀刻，使用后用去离子水清洗即可特性1020 1020AC外观：透明，橙色 透明，橙色比重 1.127-1.130 1.127-1.130滤透尺寸 0.2 micron-工作温度 可变 可变蚀刻率（40 °C）40 ？/sec 32 ？/sec存储 室温 室温清洗 去离子水 去离子水应用：蚀刻温度根据膜的厚度不同变化，室温下蚀刻时间从15秒到60秒。注意：操作必须在通风罩内进行。铬金属陶瓷蚀刻剂TFE。
