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激光与光电子学进展 国家级 “光通信技术、光通信研究、半导体光电、激光技术、激光与光电子学进展、红外与激光工程”哪个好?

2020-10-07知识10

国内哪本物理刊物比较好?

中文激光是谁命名的 应该是钱学森

介绍一下光电子科学的发展历程和近几年的突破以及未来的发展前景,写论文,还有光电子与微电子的区别,

中科院5nm激光光刻,是否意味可以取代荷兰的ASML光刻机? “极客谈科技”,全新视角、全新思路,伴您遨游神奇的科技世界。一个好消息传来,中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸与国家纳米中心刘前共同在Nano Letters上发表了一篇研究论文,论文的主要内容是他们所研发的新型5nm高精度激光光刻加工方法。说到芯片这个问题,一直是我国的弱项,美国也频繁以此来卡住我国高新企业的脖子。本次中科院新型5nm高精度激光光刻的成功研发,填补了我国在这一领域的空白,是一件值得庆祝的事情。很多人自然的就会联想到5nm高精度激光光刻与荷兰ASML公司光刻机之间的关系,那么,彼此之间究竟有哪些异同呢?说正题之前,有必要来解释一下5nm工艺制程,否则大多数人对此毫无概念。举一个简单的例子,当前各大手机厂商旗舰机型均使用的是7nm工艺制程,苹果的A13处理器、华为的麒麟990处理器、高通的骁龙865等。至于各大手机厂商下代旗舰机型,将会升级至5nm工艺制程(工艺制程越高,意味着芯片的性能越强、功耗越低)。至于芯片生产,那就离不开光刻机,这也是美国能够限制华为芯片的地方。那么,中科院新型5nm高精度激光光刻与荷兰ASML公司光刻机究竟有哪些区别呢?首先,大家可能会注意到,5nm高精度激光光刻的前面有一个“新”字,这意味。

#芯片#任正非#光刻机#原子核#发光二极管

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