水中1，1，1-三氯乙烷的三种去除工艺方法 试读结束，如需阅读或下载，请点击购买>；原发布者：维普网净水技术21，14：66 023（）21136—9Wae uictnTcnlg tPriai ehoyrfoo水中111，一5261三氯乙烷的三种去除工4102艺方法姜旭1，2108；5002哈尔1653滨工业大学市政环境工程学院，黑龙江哈尔滨109）500（．1哈尔滨供排水集团水质中心，黑龙江哈尔滨摘要该文对水中1，一，1三氯乙烷的三种去除方法进行了研究。1结果表明曝气吹脱能有效去除水中111三氯乙烷。当初始，一浓度为1／4mgL时，曝气流量越大，去除率越高，固定的曝气流量下，在曝气时间越长，除效果越好，去当曝气时间达到3 n5mi 时去除率达到10％；0当气水比为3．，5时剩余污染物浓度可以满足国标限值要求；在相同的曝气流量下，一11三氯乙烷去除 1效果随着温度的升高而增大；H值对11一p，三氯乙烷去除无影响。水源水条件下，1，一l当，1三氯乙烷初始浓度为1m／、1 gL粉末 活性炭投加量为2 gL吸附时间为10mn时，三氯乙烷吸附达到平衡，0rn去除率达40m／、2 i111一3 ia2％。1，一，I三氯乙烷初始 1浓度为5mgL煮沸，i后即可达到国标限值以下，i后去除率可达
氯乙烯的生产方法 乙烯、乙炔和混合烯炔法的特点如下：工业生产氯乙烯的主要方法。分三步进行（见图）：第一步乙烯氯化生成二氯乙烷；第二步二氯乙烷热裂解为氯乙烯及氯化氢；第三步乙烯、氯化氢和氧发生氧氯化反应生成二氯乙烷。①乙烯氯化 乙烯和氯加成反应在液相中进行：CH2=CH2+Cl2→CH2ClCH2Cl采用三氯化铁或氯化铜等作催化剂，产品二氯乙烷为反应介质。反应热可通过冷却水或产品二氯乙烷汽化来移出。反应温度40～110℃，压力0.15～0.30MPa，乙烯的转化率和选择性均在99%以上。②二氯乙烷热裂解 生成氯乙烯的反应式为：ClCH2CH2Cl→CH2=CHCl+HCl反应是强烈的吸热反应，在管式裂解炉中进行，反应温度500～550℃，压力0.6～1.5MPa；控制二氯乙烷单程转化率为50%～70%，以抑制副反应的进行。主要副反应为：CH2=CHCl→HC≡CH+HClCH2=CHCl+HCl→ClCH2CH2ClClCH2CH2Cl→C2H2+2HCl裂解产物进入淬冷塔，用循环的二氯乙烷冷却，以避免继续发生副反应。产物温度冷却到50～150℃后，进入脱氯化氢塔。塔底为氯乙烯和二氯乙烷的混合物，通过氯乙烯精馏塔精馏，由塔顶获得高纯度氯乙烯，塔底重组分主要为未反应的粗二氯乙烷，经精馏除去不纯物后，仍作热裂解原料。③氧氯化反应 以载在。
液晶清洁剂的制作工艺 众所周知，以前LCD行业大量使用的氟里昂、三氯乙烷属于臭氧层损耗物质（ODS），严重破坏地球高空臭氧层，危害人类的生态环境，是国际公约限期停止生产和使用的物质。国家环保总局外经办发布了《关于消耗臭氧层物质（ODS）清洗剂实行使用许可证的通知》强制减少和淘汰ODS清洗剂，LCD行业已有14家企业参与了《中国清洗行业ODS整体淘汰计划》，并获国际多边基金赠款，其中已有9家企业的替代清洗设备已经完成，即将投入运行。故选择适合的替代清洗剂及其工艺路线的选择成为当务之急。适用于LCD行业的替代清洗剂有水基清洗剂、半水基清洗剂、溶剂清洗剂三种类型，水基和半水基清洗适用于超声水洗工艺路线，溶剂清洗剂适用于气相超声清洗工艺路线。表1列举替代清洗技术的比较。值得一提的是，对于LCD狭缝残留液晶的清洗的速度而言，水基清洗剂远远不及溶剂和半水基清洗剂。其原因有二：一是水基清洗剂去除LCD残留液晶是以表面活性与液晶的乳化作用为主，乳化对超声的依赖性较大，二是水的表面张力比溶剂大，对狭缝的润湿性能较差。半水基和溶剂清洗剂对液晶是一种溶解作用。
氧化锆轴承可以在三氯乙烷中工作吗 下午好，可以的。三氯乙烷不腐蚀氧化物，但如果你是高温工件例外，可能会分解出光气和盐酸，这些会腐蚀非氧化层之外的其他部份。在卤素烷烃里工作的机件一般都要预先做钝化处理比如磷酸工艺，还有就是必须注意三氯乙烷的分解条件，尽量避免。
国家明令淘汰的安全技术、工艺、设备、设施和材料有那些 淘汰类 注：条目后括号内年份为淘汰期限，淘汰期限为2006年是指应于2006年底前淘汰，其余类推；。
1_1_2_三氟三氯乙烷转产技术具体是什么？请教故意网朋友 氟三氯乙烷(CFC-113)是亟需淘汰的消耗臭氧层物质(ODS)之一，本文对 CFC-113 国内淘汰现 状进行了分析，介绍了以 CFC-113 为原料转产非 ODS 物质三氟氯乙烯、CFC-113a、三氟。
粉尘的表面积，主要取决于粉尘的什么
请大家能给我讲解一下，焦化厂工艺流程 焦化厂2113工艺流程焦化厂的生产工艺焦化厂有9个生产车间5261，分别为备4102煤车间、一号炼1653焦车间、二号炼焦车间、运焦车间、一回收车间、二回收车间、热力车间、维修车间和精制车间。焦化厂主要生产车间：备煤车间、炼焦车间、煤气净化车间及其公辅设施等，各车间主要生产设施如下表所示：序号系统名称主要生产设施1备煤车间煤仓、配煤室、粉碎机室、皮带机运输系统、煤制样室2炼焦车间煤塔、焦炉、装煤设施、推焦设施、拦焦设施、熄焦塔、筛运焦工段(包括焦台、筛焦楼)3煤气净化车间冷鼓工段(包括风机房、初冷器、电捕焦油器等设施)；脱氨工段(包括洗氨塔、蒸氨塔、氨分解炉等设施)；粗苯工段(包括终冷器、洗苯塔、脱苯塔等设施)4公辅设施废水处理站、供配电系统、给排水系统、综合水泵房、备煤除尘系统、筛运焦除尘系统、化验室等设施、制冷站等3、炼焦的重要意义由高温炼焦得到的焦炭可供高炉冶炼、铸造、气化和化工等工业部门作为燃料和原料；炼焦过程中得到的干馏煤气经回收、精制可得到各种芳香烃和杂环混合物，供合成纤维、医药、染料、涂料和国防等工业做原料；经净化后的焦炉煤气既是高热值燃料，也是合成氨、合成燃料和一系列有机。
