氮化硅是怎样生产的？
氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料，具有优良性能．
Si3N4的制备历史 亨利·爱丁·圣克莱尔·德维尔和弗里德里希·维勒在1857年首次报道了氮化硅的合成方法。在他们报道的合成方法中，为减少氧气的渗入而把另一个盛有硅的坩埚埋于一个装满碳的坩埚中加热。他们报道了一种他们称之为硅的氮化物的产物，但他们未能弄清它的化学成分。1879年Paul Schuetzenberger通过将硅与衬料（一种可作为坩埚衬里的糊状物，由木炭、煤块或焦炭与粘土混合得到）混合后在高炉中加热得到的产物，并把它报道为成分是Si3N4的化合物。1910年路德维希·魏斯和特奥多尔·恩格尔哈特在纯的氮气下加热硅单质得到了Si3N4。1925年Friederich和Sittig利用碳热还原法在氮气气氛下将二氧化硅和碳加热至1250-1300°C合成氮化硅在后来的数十年中直到应用氮化硅的商业用途出现前，氮化硅未受到重视和研究。从1948年至1952年期间，艾奇逊开办在纽约州尼亚加拉大瀑布附近的金刚砂公司为氮化硅的制造和使用注册了几项专利。1958年联合碳化物公司生产的氮化硅被用于制造热电偶管、火箭喷嘴和熔化金属所使用的坩埚。英国对氮化硅的研究工作始于1953年，目的是为了制造燃气涡轮机的高温零件。由此使得键合氮化硅和热压氮化硅得到发展。1971年美国国防部下属的国防高等研究计划署。
氮化硅的合成方法
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氮化硅原件怎么做 题目没怎么看懂，但是我猜测你可能想问怎么制备氮化硅吧，恰好我今年论文题目是这个想关的，我可以发点资料你看看吧是我论文里面的一段，也是在网上插的资料吧，如果你想要更多的，我也可以给你发更多的文献2.1.1 硅粉直接氮化法主要是指纯净硅粉在N2、N2+H2或NH3的还原性气氛中发生反应，生成氮化硅微粉[8-10]。根据反应温度的差异，反应方程式如下：（2.1）此法在较低温度下得到的是α-Si3N4和β-Si3N4的混合物，高温下得到的只有β-Si3N4。该法对硅粉粒径的要求比较高，而且反应温度比较高，对反应设备的耐高温耐高压性能提出了要求。因此，硅粉直接氮化法质量的进一步提高主要取决于碾磨机性能的提高和单质硅性质的改善。而由此方法发展起来的自蔓延高温合成(Self-propagating High-temperature Synthesis，SHs)为硅粉直接氮化法开辟了一条新的思路。2.1.2 碳热还原法碳热还原法是指SiO2和C的粉末在高温下的N2气氛中发生氮化和还原反应，生成Si3N4微粉[11-13]。反应方程式如下：（2.2）虽然目一前人们对此反应的机理还没有探索清楚，但可以确定的是反应中生成了SiO2并由SiO2参与气相反应。产物的组成主要受C/SiO2比、起始物料的结构特征(细颗粒，低的粒径分布和。
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