晶体硅是一种重要的半导体材料，工业上晶体硅的制备流程如下：
晶体硅太阳电池制备的基本工艺？太阳能电池片的生产工艺流程 分为硅片检测-表面制绒-扩散制结-去磷硅玻璃-等离子刻蚀-镀减反射膜-丝网印刷-快速烧结等。。
工业制取单质硅的方法 工业上生产硅是2113在电弧炉中还原硅石（二氧化5261硅含量大于99%）。使用4102的还原剂为石1653油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（二氧化硅大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。高纯的半导体硅可在1，200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。扩展资料硅的应用领域：1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半导体；掺入微量的第VA族元素，形成n型半导体。2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。将陶瓷和金属混合烧结，制成金属陶瓷复合材料，它耐高温，富韧性，可以切割，既继承了金属和陶瓷的各自的优点，又弥补了两者的先天缺陷。3、光导纤维通信，最新的现代通信手段。用纯二氧化硅可以拉制出高透明度的玻璃纤维。激光可在玻璃纤维的通路里，发生无数次全反射而向前传输，代替了笨重的电缆。参考资料来源：—硅
按要求完成以下方程式： （1）电解熔融的氯化钠可以得到金属钠，反应的化学方程式为：2NaCl 电解.2Na+Cl 2↑，故答案为：2NaCl 电解.2Na+Cl 2↑；（2）偏铝酸钠溶液中通入过量二氧化碳，反应生成了氢氧化铝沉淀和碳酸氢钠，反应的化学方程式为：AlO 2-+CO 2+2H 2 O=Al（OH）3↓+HCO 3-，故答案为：AlO 2-+CO 2+2H 2 O=Al（OH）3↓+HCO 3-；（3）工业上利用二氧化碳与碳在高温下反应生产晶体硅，反应的化学方程式为：SiO 2+2C 高温.Si+2CO↑，故答案为：SiO 2+2C 高温.Si+2CO↑；（4）实验室用二氧化锰与浓盐酸反应制取氯气，反应的化学方程式为MnO 2+4HCl（浓）△.MnCl 2+Cl 2↑+2H 2 O，故答案为：MnO 2+4HCl（浓）△.MnCl 2+Cl 2↑+2H 2 O．
晶体硅可用作制芯片和太阳能电池等。下列流程图是工业上制取纯硅的一种方法。 (1)I、Ⅱ、Ⅲ(2)CO、HCl；CO 2(3)SiO 2+Na 2 CO 3 Na 2 SiO 3+CO 2↑(4)b(5)Ni(CO)4 Ni+4CO↑
在工业上制备单质硅的化学方程式 第一种。SiO2+2C=Si+2CO↑Si+2Cl2=SiCl4SiCl4+2H2=Si+HCl条件都是高温第二种.将细砂粉（SIO2）与镁粉混和，制得粗硅。这种粗硅往往含有过量的镁氧化镁和硅化镁，可用盐酸除去。SIO2+2MG=SI+2MGO(条件：高温)2MG+SI=MG2SI（条件：高温)mg+2hcl=mgcl2+h2 mgo+2hcl=mgcl2+h2omg2si+4hcl=2mgcl2+sih4
工业制单晶硅反应的方程式
工业制硅化学方程式：2C+SiO2=高温=2CO+Si（得到粗硅）Si+2Cl2=SiCl42H2+SiCl4=高温=Si+4HCl（得到精硅）
