磁控溅射原理中起辉的具体过程？Ar气是怎么被电离的？ 在正负电极间外加电压的作用百下，电极间的气体原子将被电离。电离过程使部分Ar原子电离成为Ar+离子和电子，电子受电场加速向阳极运动度，带正电荷的Ar+离子在电场作用下加速向作为阴极靶运动，并在与靶材表面撞击过程中释放出相应的能量。具有一定能量离子撞击靶材的结果之一是靶材表面原子获得一知定的能量，并离开靶材表面，向衬底运动。在上述溅射的过程中，道还伴随有其他粒子，包括二次电子等从阴极的发射过程。这个是气体放电现象，电压一般在上千伏。但是磁控溅射不同，磁控溅射时，靶材表面有磁场，可将电子束缚在靶材周围，不至于丢失，专形成自维持放电现象，电压自然降低到几百伏特。在自维持放电过程中，大部分氩气的属电离是由自由电子轰击后造成的。e-+Ar→Ar+2e-
直流溅射法制备金属薄膜为什么用氩气不用空气 直流溅射法：在镀膜室中充入氩气，利用直流电压产生辉光放电，由此形成的氩气离子和由它产生的快速中性离子(溅射粒子)以高速。
什么是PLD技术？它经历了哪几个阶段？每个阶段有什么特点？可编程逻辑器件PLD（programmable logic device)：PLD是做为一种通用集成电路生产的，他的逻辑功能按照用户对器件。
ito靶材是什么？
铟的用途 昕纳公司回收铟渣ito靶材废铟铟的应用简介金属铟具有延展性好，可塑性强，熔点低，沸点高，低电阻，抗腐蚀等优良特性，且具有较好的光渗透性和导电性，被广泛应用于宇航、无线电和电子工业、医疗、国防、高新技术、能源等领域。生产ITO靶材（用于生产液晶显示器和平板屏幕）是铟锭的主要消费领域，占全球铟消费量的70%；其次电子半导体领域，占全球消费量的12%；焊料和合金领域占12%；研究行业占6%。ITO靶材由于铟锭具有较好的光渗透性和导电性，由高纯氧化铟和氧化锡的玻璃态复合物（ITO）在等离子电视和液晶电视屏工业中用来制作透明导电的电极，还用作某些气体测量的敏感元件。全球铟消费的70%都用来生产ITO靶材。电子半导体和无线电领域铟具有沸点高、低电阻和抗腐蚀等特性，在电子半导体和无线电行业也有广泛应用。有相当大部分的金属铟用于生产半导体材料。在无线电和电子工业中，铟用于制造特殊的接触装置，即将铟和银的氧化物经混合后压制而成。铟在焊料和合金领域的应用许多合金在掺入少量的铟之后，可以提高合金的强度、提高其延展性、提高其抗磨损与抗腐蚀的性能等，从而使铟得到了“合金的维生素”这样的美名，也有人称之为“奇妙的铟效应”。铟合金。
