求电路图。打算自制光驱激光雕刻机，用的是mini arduino怎么接步进电机电路，和激光头。 你可以用grbl，在github上可以下到固件连接图如
光刻机的光刀是用来切割晶圆的吗？ 光刻机中的“光刀”指的是“极紫外光线通过照射掩膜之后的影像，在经过透镜组之后形成的宽度极窄的光斑”。该光斑并不是来切割晶圆的，而是要将掩膜版上的线路图照射到晶圆上，而晶圆上是涂油光刻胶的。光刻胶被紫外光照射之后，发生反应就将电路图印制在晶圆上。以此可知，光刀就是与晶圆上的光刻胶反应的光线，并不是为了切割晶圆，而切割晶圆的设备叫做“激光隐形晶圆切割机。光刻机中的最重要的光源有紫外光，深紫外光，极紫外光，波长依次变短。较短的波长也就体现在光刻机的分辨率越高，也就是制造出来的芯片制程越小。光源为紫外光的光刻机可以制造出制程为800纳米-250纳米的芯片；光源为深紫外光的光刻机只能制造出制程为180纳米-22纳米的芯片；光源为极紫外光的光刻机可以制造出制程为22纳米-7纳米的芯片。而现在最常用的也就是极紫外EUV光刻机了，手机的芯片，电脑的处理器也都用该光刻机进行制造。由于光源的制造难度极大，主要是因为窄线宽，大能量，高脉冲频率，这些参数互相矛盾。目前来说，除了美国Cymer公司花费50年时间，烧了200亿美元才制造出极紫外光源。也就是日本的东京工业大学的科学家发现了制造极紫外光源的新途径。也就是说，只有这两家可以拿出成品。
为什么说光刻机难以制作？ 光刻机是芯片制造中必不可少的精密设备。其难度甚至超过航空发动机。首先是在技术上的难度：光刻机可以说每个部件都是科技含量很高，步步困难重重。瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理：光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在最先进技术是极紫外光。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。硅片上有了电路图的图样后，就轮到刻蚀机登场，刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工，在硅片表面雕刻出晶体管和电路。芯片主要是精度要求高。纳米精度是什么概念呢？是我们肉眼无法分辨的，大概相当于一根头发丝的5000分之一纳米细小。光刻机几个关键部件：光源：必须稳定、高质量地提供指定波长的光束。能量控制器：就是电源。电源要稳定、功率要足够大，否则光源发生器没办法稳定工作。大、稳、同时要考虑经济性能。耗电。
中国目前光刻机处于怎样的水平？
学过光电信息科学与工程专业的你，现在工作/科研境况如何？遇到过哪些挑战？ https：//www. kickstarter.com/project s/glowheadphones/glow-the-first-smart-headphones-with-laser-light/description 这个项目就难度很多 专业要求也相对高很多。。
