在真空镀膜中`AR表示什么` 真空镀膜：一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀。
小敏对参与人饮酒前进行测试的目的是
镀膜材料常用的都有哪些？ 金属靶材：钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Su、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、碳靶C、钒靶V、锑靶Sb、铟靶In、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、锆靶Zr、铬靶Cr、不锈钢靶材S-S、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge等…稀土金属靶：钇靶Y、镝靶Dy、钬靶Ho、铒靶Er、铥靶Tm、镧靶La、铈靶Ce、镨靶Pr、钕靶Nb、钐靶Sm、铕靶Eu、钆靶Gb、铽靶Tb、镱靶Yb、镥靶Lu等.稀土陶瓷靶：氧化铒Er2O3靶、氧化铥靶Tm2O3、氧化钬靶Ho2O3、氧化铕靶Eu2O3、氧化镧靶La2O3、氧化铈靶CeO2、氧化镨靶Pr6O11、氧化钕Nd2O3、氧化钐靶Sm2O3、氧化钕靶Nd2O3….合金靶材：铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等…陶瓷靶材：ITO靶，一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2，三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、五氧化二钽靶Ta2O5，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化锌靶ZnO、氧化锆靶ZrO、氧化镁靶MgO、单晶硅靶、多晶硅靶.氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、氟化锂靶LiF、氟化钡靶BaF3，碳化硼靶B4。
