ZKX's LAB

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围?

2020-10-04知识17

富硅氮化硅薄膜和氮化硅薄膜的区别 氮化硅薄膜作为电介质,钝化层,或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中,我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系数。有趣的事,氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围?

光伏反射的光也对动物有危害吗 减反射膜的作用是增加更多的光吸收,可以增大光电流。同时,减反射膜对硅片还有保护和钝化作用,可以增加电生电压,对提高光伏电池的电性能。

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围?

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围? 在氮化硅生长方面,LPCVD与PECVD有何区别,如在薄膜质量方面来讲。为何在湿法刻蚀中,用作保护层的氮化硅都用LPCVD生长,而不用PECVD,用PECVD生长的氮化铝能不能被用来做。

用PECVD和LPCVD能生长的氮化硅膜厚范围?

硅烷与氨气 氨气和甲烷的反应要在纯氧气、1050摄氏度、和铂金丝网作催化剂的条件下反应,反应式如下:2ch4+2nh3+3o2(1050°c铂网)2hcn+6h2o硅烷(矽烷)在空气中可以自燃

单晶硅电池氮化硅膜膜厚和和折射率有关系吗? 肯定没有,折射率是物体的本质不能改变的

pecvd氮化硅膜为什么是蓝色的 这个是膜厚决定的,从73至93钠米的膜厚,都是蓝色的。再厚就偏白,再浅就偏红。

#氮化硅#光伏

随机阅读

qrcode
访问手机版