怎样制备高纯硅
各位化学界的大神，三氯化硼在制药方面的用途是什么
太阳能电池片经过几道工序生产？ 太2113阳能电池片的生产工艺流程分为5261硅片检测—表4102面制绒及酸洗—扩散制结—去磷1653硅玻璃—等离子刻蚀及酸洗—镀减反射膜—丝网印刷—快速烧结等。具体介绍如下：一、硅片检测硅片是太阳能电池片的载体，硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池片转换效率的高低，因此需要对来料硅片进行检测。该工序主要用来对硅片的一些技术参数进行在线测量，这些参数主要包括硅片表面不平整度、少子寿命、电阻率、P/N型和微裂纹等。该组设备分自动上下料、硅片传输、系统整合部分和四个检测模块。其中，光伏硅片检测仪对硅片表面不平整度进行检测，同时检测硅片的尺寸和对角线等外观参数；微裂纹检测模块用来检测硅片的内部微裂纹；另外还有两个检测模组，其中一个在线测试模组主要测试硅片体电阻率和硅片类型，另一个模块用于检测硅片的少子寿命。在进行少子寿命和电阻率检测之前，需要先对硅片的对角线、微裂纹进行检测，并自动剔除破损硅片。硅片检测设备能够自动装片和卸片，并且能够将不合格品放到固定位置，从而提高检测精度和效率。二、表面制绒单晶硅绒面的制备是利用硅的各向异性腐蚀，在每平方厘米硅表面形成几百万个四面方锥体也即金字塔结构。由于入射光在表面。
三氯化硼（BCl （1）根据装置A的药品和反应条件可知该装置是实验室制备氯气的装置，其中发生反应的离子方程式为MnO2+4H+2Cl-△.Mn2+Cl2↑+2H2O，故答案为：MnO2+4H+2Cl-△.Mn2+Cl2↑+2H2O；（2）根据实验目的“某兴趣小组拟选用下列装置制备BCl3”，依据的原理是3Cl2+2B△.2BCl3，所以装置连接的顺序应该为气体发生装置-除杂装置-反应装置-收集装置-尾气处理装置的顺序，又实验室制备氯气中夹杂有氯化氢和水，且应先除去HCl再除去水，按气流方向连接各装置的接口，顺序为a→e→d→j→k→b→c→f→g→h，故答案为：a→e→d→j→k→b→c→f→g；（3）装置E是一个盛有碱石灰的干燥管，其作用一方面是吸收未反应的多余氯气，另一个方面也防止空气中的水蒸气进入U形管，实验中若不用装置C，则夹杂在氯气中的氯化氢也会进入盛有硼粉的玻璃管发生反应2B+6HCl△.2BCl3+3H2↑，可能产生的危险是氢气和氯气混合气体受热易爆炸；故答案为：防止空气中的水进入U形管；吸收多余的氯气；氢气与氯气混合受热易爆炸；（4）BCl3遇水产生大量的白雾，同时生成硼酸，是发生水解反应的原因，发生的方程式为BCl3+3H2O=3HCl+H3BO3，故答案为：BCl3+3H2O=3HCl+H3BO3．
三氯化硼的介绍 三氯化硼，危险化学品。主要用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂，还用于高纯硼或有机硼的制取。人类吸入、口服或经皮肤吸收对身体有害。可引起化学灼伤。另外，对环境亦有一定危害。
中国的芯片现状如何？
半导体所用的高纯硅是如何提纯到 99.999999999% 的？ 有答案给出了SiCl4的路线，感觉这个路线只是一个公开的框架原理而已，并没有答到关键的点子上。比如这个…
三氯化硼的用途 可用以制造高纯硼、有机合成用催化剂、硅酸盐分解时的助熔剂、可对钢铁进行硼化，半导体的掺杂源，合金精制中作为除氧剂、氮化物和碳化物的添加剂。还可用来制造氮化硼及硼烷化合物。
关于铋的放射性 铋有极2113其微弱的放射性。纯铋是5261柔软的金属，不纯时性脆。常温下稳定。主要4102矿石为辉铋矿(Bi2S3)和赭铋石1653（Bi2o5)。液态铋凝固时有膨胀现象。性脆，导电和导热性都较差。铋的硒化物和碲化物具有半导体性质。金属铋为有银白色（粉红色）到淡黄色光泽的金属，质脆易粉碎；室温下，铋不与氧气或水反应，在空气中稳定。导电导热性差；以前铋被认为是相对原子质量最大的稳定元素，但在2003年，发现了铋微弱的放射性，可经α衰变变为铊-205。其半衰期为1.9X10^19年左右，达到宇宙年龄的10亿倍。扩展资料：铋主要用于制造易熔合金，熔点范围是47～262℃，最常用的是铋同铅、锡、锑、铟等金属组成的合金，用于消防装置、自动喷水器、锅炉的安全塞，一旦发生火灾时，一些水管的活塞会“自动”熔化，喷出水来。在消防和电气工业上，用作自动灭火系统和电器保险丝、焊锡。铋合金具有凝固时不收缩的特性，用于铸造印刷铅字和高精度铸型。碳酸氧铋和硝酸氧铋用于治疗皮肤损伤和肠胃病。用于制低熔合金，在消防和电气安全装置上有特殊的重要性。在分析化学中用于检测Mn。铋可制低熔点合金，用于自动关闭器或活字合金中。参考资料来源：-铋
元素Ge代表什么
