常用的物理镀膜方法有几种 薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式。1、真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构。
合成出来的磷酸钒锂合不纯的原因是什么哇？ 单斜晶系的磷酸钒锂是一个有着较高工作电压的正极材料，它具有稳定的结构，优异的循环性能和安全性能。但由于磷酸钒锂材料的电子电导率比较低，大倍率下的放电性能也不是很。
氢氟酸和硼酸反应的化学方程式 不反应。氢氟酸是氟2113化氢气体5261的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液4102体，有剧烈刺激性气味。熔1653点-83.3℃，沸点19.54，闪点112.2℃，密度1.15g/cm3。易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。
铬有导电性吗 有`2113铬chromium一种化学元5261素。化学符号Cr，原子4102序数24，原子量51.9961，属周期系ⅥB族。1797年法国1653N.-L.沃克兰从西伯利亚红铅矿(即铬铅矿)中发现一种新元素，次年用碳还原法制得这种金属。因为铬能形成多种颜色的化合物，便用希腊文chromos(含义是颜色)命名为chromium.铬在地壳中的含量为1.0×10-2%。最重要的矿物为铬铁矿。铬是钢灰色有光泽的金属，熔点1857℃，沸点2672℃，20℃时的密度，单晶为7.22克/厘米3，多晶为7.14克/厘米3。有延展性，但含氧、氢、碳和氮等杂质时变得硬而脆。铬的化学性质不活泼，常温下对氧和水汽都是稳定的，铬在高于600℃时开始和氧发生反应，但当表面生成氧化膜以后，反应便缓慢，当加热到1200℃时，氧化膜被破坏，反应重新变快。高温下，铬与氮、碳、硫发生反应。铬在常温下就能和氟作用。铬能溶于盐酸、硫酸和高氯酸，遇硝酸后钝化，不再与酸反应。铬能与镁、钛、钨、锆、钒、镍、钽、钇形成合金。铬及其合金具有强抗腐蚀能力。铬的氧化态为－1、－2、＋1、＋2、＋3、＋4、＋5、＋6.铬的氧化物有氧化亚铬(CrO)、三氧化二铬(Cr2O3)、三氧化铬(CrO3)。三氧化铬是红色针状晶体，高温下分解为三氧化二铬和氧气，是强。
