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靶材背管 X衍射分析基础

2020-10-03知识4

为什么原来说 7 nm 是半导体工艺的极限,但现在又被突破了? 10年前我们觉得65nm工艺是极限,因为到了65nm节点二氧化硅绝缘层漏电已经不可容忍。所以工业界搞出了HKMG…

靶材背管 X衍射分析基础

笔记本电脑显示屏的构造 液晶显示器的结构2113一般地,TFT-LCD由上基板组5261件、下基板组件、液晶、4102驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成,其中1653:下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列,而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构,液晶填充于上、下基板形成的空隙内。图1.1显示了彩色TFT-LCD的典型结构,图1.2图进一步显示了背光灯模组与驱动电路单元的结构。在下玻璃基板的内侧面上,布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,它们均由光刻、刻蚀等微电子制造工艺形成,其中每一像素的TFT半导体器件的剖面结构如图1.3所示。在上玻璃基板的内侧面上,敷有一层透明的导电玻璃板,一般为氧化铟锡(Indium Tin Oxide,简称ITO)材料制成,它作为公共电极与下基板上的众多导电微板形成一系列电场。如图1.4所示。若LCD为彩色,则在公共导电板与玻璃基板之间布满了三基色(红、绿、蓝)滤光单元和黑点,其中黑点的作用是阻止光线从像素点之间的缝隙泄露,它由不透光材料制成,由于呈矩阵状分布,故称黑点矩阵(Black matrix)。2 液晶显示器的制造工艺流程彩色TFT-LCD制造工艺流程主要包含4个子流程:TFT。

靶材背管 X衍射分析基础

关于ito靶材的绑定技术、不是制造ito而是绑定技术。 如果是直板状的,现在绑定技术都比较简单了,很大众化,一面涂金属涂层,在将有涂层的那一面绑定在铜背板上。如果是圆筒靶,我也很好奇应该怎么绑定

靶材背管 X衍射分析基础

中国芯片差在哪? 在半导体这个领域,中国需要挑战的是,西方上百年积累起来的工业体系。来源:华商韬略 作者丨张静波中国…

所有癌症是不是都可以通过抽血检查查出来 一般血液检查明显异常的癌症有白血病。当人得癌症时,血液中的肿瘤标志物有可能会升高,如肝癌是AFP会升高。但不是所有癌症病人血液中的肿瘤标记物都会升高。血液中肿瘤。

美国有没有被中国卡脖子的技术? 中国的混元太极掌门人保国.马的武功就是美国佬不掌握的,保国.马就能卡美国佬的脖子…

X荧光光谱仪的滤光片有什么作用 专业的讲使用滤光片的目的是消除或降低X射线管发射的原级X射线谱,尤其是靶材的特征X射线谱对待测元素的干扰,可改善峰背比,提高分析的灵敏度。能量色散X射线荧光分析仪有两种类型的滤光片:初级滤光片和次级滤光片。初级滤光片是将滤光片置于光管和样品间,其目的是为得到单色性更好的辐射和降低待分析元素谱感兴趣区内的由原级谱散射引起的背景。次级滤光片是将滤光片置于样品和探测器之间,主要是对试样中产生的多元素X射线荧光谱线进行能量选择,提高待测元素的测量精度。

液晶显示器 生产工艺 好的话请给分请请哈:)1.液晶显示器的结构一般地,TFT-LCD由上基板组件、下基板组件、液晶、驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成,其中:下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列,而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构,液晶填充于上、下基板形成的空隙内。图1.1显示了彩色TFT-LCD的典型结构,图1.2图进一步显示了背光灯模组与驱动电路单元的结构。在下玻璃基板的内侧面上,布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,它们均由光刻、刻蚀等微电子制造工艺形成,其中每一像素的TFT半导体器件的剖面结构如图1.3所示。在上玻璃基板的内侧面上,敷有一层透明的导电玻璃板,一般为氧化铟锡(Indium Tin Oxide,简称ITO)材料制成,它作为公共电极与下基板上的众多导电微板形成一系列电场。如图1.4所示。若LCD为彩色,则在公共导电板与玻璃基板之间布满了三基色(红、绿、蓝)滤光单元和黑点,其中黑点的作用是阻止光线从像素点之间的缝隙泄露,它由不透光材料制成,由于呈矩阵状分布,故称黑点矩阵(Black matrix)。2 液晶显示器的制造工艺流程彩色TFT-LCD制造工艺流程主要包含4个子。

X衍射分析基础 11.3.1.1 样品制备粉晶X射线衍2113射样品的制5261备会直接影响衍射效果。因此4102,制备合乎要求的样品1653是粉晶X射线衍射仪分析技术中的重要环节。X射线衍射分析的样品主要有粉末样品、块状样品、薄膜样品、纤维样品等。样品不同、分析目的不同(定性分析或定量分析),则样品制备方法也不相同,如图11.4所示。图11.4 常用样品的制备方法a—粉末样品;b—块状样品;c—微量样品;d—薄膜样品(1)粉末样品粉末样品应有一定的粒度要求,所以通常将试样研细后使用,可用玛瑙研钵研细。定性分析时粒度应小于44μm(350目),定量分析时应将试样研细至10μm左右。较方便地确定10μm粒度的方法是,用拇指和中指捏住少量粉末并捻动,两手指间没有颗粒感觉的粒度即大致为10μm。根据粉末的数量可压在玻璃制的通框或浅框中,压制时一般不加粘结剂,所加压力以使粉末样品粘牢为限,压力过大可能导致颗粒间的择优取向。当粉末数量很少时,可在玻璃片上抹一层凡士林,再将粉末均匀撒上。常用的粉末样品架为玻璃试样架,在玻璃板上蚀刻出试样填充区,约为20×18mm2。玻璃样品架主要用于粉末试样较少时(约少于500mm3)使用。充填时,将试样粉末一点一点地放进试样填充区,重复这种。

持式X荧光合金分析仪哪个厂家有生产啊? 专业的讲用于滤光片的目的是避免或减少X射线管升空的原级X射线谱,尤其是靶材的特征X射线谱对待测元素的

#滤光片#玻璃基板

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