常用的物理镀膜方法有几种 薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式。1、真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构。
集齐元素周期表所有元素，大概需要多少钱？ 目前是除了强放射性元素以外的化学元素全部集齐了，一般只收集游离态单质（只喜欢可以玻封起来的小物件，…
真空镀膜的前处理流程是怎样的，谢谢 简介真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已。
稀有金属有哪些？ 稀有金属通常指在自然界中含量较少或分布稀散的金属。它们难于从原料中提取，在工业上制备和应用较晚。但在现代工业中有广泛的用途，如用于制造特种钢、超硬质合金和耐高温。
什么是靶材？靶材一般用途是什么？ 简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜.铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系。
靶材是什么 靶材就是高速荷能粒子轰2113击的目标材5261料，用于高能激光武器中，不同4102功率密度、不同输出1653波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。材质分类：⒈金属靶材镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。⒉陶瓷靶材ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、。
在真空镀膜中`AR表示什么` 真空镀膜：一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀。
测量氨氮时酒石酸钾钠有什么作用 酒石酸2113钾钠主要是屏蔽金属离子的干扰。5261 氨氮测定的纳氏试4102剂分析法中，水体中常见金属1653离子有Ca2+、Mg2+、Fe2+、Mn2+等。对水样的水质进行预处理，因为测量氨氮的干扰很多，加入后使干扰降低吧。利用葡萄下脚料中所含的酒石与碳酸钠或氢氧化钠产生中和反应而制得C4O6H4KNa分D型和DL型两种，D型为无色透明结晶体。60°C时开始失去结晶水，215°C时失去其全部结晶水。两摩尔的酒石酸氢钾溶于水加热，加入一摩尔碳酸钠，趁热过滤，不溶物干燥结晶，即得到酒石酸钾钠。扩展资料：将原料酒石酸氢钾放入缸内，加入二倍量的水，用蒸汽加热煮沸后，在不断搅拌下，慢慢加入干态的碳酸钠中和，直至不产生气泡为止。这时溶液用石蕊试纸试验呈中性。将滤液移入搪瓷桶内，加热蒸发浓至溶液浓度为38-42波美度，取出置于浅盘内（厚度以15-20厘米为宜），在室温下静置24小时即自然结晶。分出母液，取出结晶，用冷水洗涤一次（洗水与母液合并回收），即得酒石酸钾钠粗制品。酒石酸钾钠的测定：迄今为止酒石酸盐塑化学镀铜溶液中酒石酸钾钠的分析测定，一般均采用高锰酸钾进行氧化反应，通过消耗高锰酸钾的量来计算酒石酸钾钠的含量。由于化学镀铜溶液中的甲醛及其它。
法拉电容和电解电容一样吗 法拉电容和电解电容不一样。区别：1、概念不同法拉电容：法拉电容又叫双电层电容器、黄金电容、超级电容器，是从上个世纪七八十年代发展起来的一种化学元件。超级电容器通过极化电解质来储能，但不发生化学反应，而且储能过程是可逆的，也正因为此超级电容器可以反复充放电数十万次。电解电容：电解电容是电容的一种，金属箔为正极（铝或钽），与正极紧贴金属的氧化膜（氧化铝或五氧化二钽）是电介质，阴极由导电材料、电解质（电解质可以是液体或固体）和其他材料共同组成，因电解质是阴极的主要部分，电解电容因此而得名。2、特点不同法拉电容：充电速度快，充电10秒～10分钟可达到其额定容量的95%以上；循环使用寿命长，深度充放电循环使用次数可达1~50万次，没有“记忆效应”，也不存在过度放电的问题；大电流放电能力超强，能量转换效率高，过程损失小，大电流能量循环效率≥90%；功率密度相对较低，约为2W/KG~3W/KG，相当于铅酸电池的1/5~1/10；产品原材料构成、生产、使用、储存以及拆解过程均没有污染，是理想的绿色环保电源；充电线路简单，无需充电电池那样的充电电路，长期使用免维护；超低温特性好，温度范围宽-40℃～+70℃；检测方便，剩余电量可。
