四氯化硅与氢气反应生成的氯化氢气体用加气体符号吗？为什么？ 不用。反应H2就是气体。反应物中有气体在的，生成物中的气体不用气体符号
有谁知道四氯化硅SiCl4和氮气N2在氢气H2的保护下反应制取氮化硅的方程式 也可用化学气相沉积法，使SiCl4和N2在H2气氛保护下反应，产物Si3N4积在石墨基体上，形成一层致密的Si3N4层.此法得到的氮化硅纯度较高，其反应如下：SiCl4＋2N2＋6H2→Si3N4＋12HCl
（1）高温下氢气与四氯化硅（SiCl （1）氢气与四氯化硅在高温条件下反应的化学方程式为：SiCl4+2H2 高温.Si+4HCl．故填：SiCl4+2H2 高温.Si+4HCl．（2）两个钠离子可以表示为2Na+；两个水分子可以表示为2H2O；nbs.
电解熔融三氧化二铝有没有离子方程式 有的话请写出来 三氧化二铝不存在离子方程式，因为这个化合物里只存原子.在但是有电解方程式的.2Al2O3=（通电）2Al+3O2↑
硅是信息技术的关键材料，高温下氢气与四氯化硅（SiCl A、置换反应是一种单质和一种化合物反应生成另一种单质和另一种化合物的化学反应，2H2+SiCl4═Si+4HCl属于置换反应，故选项正确；B、分解反应是由一种物质生成两种或两种以上的物质的反应，故选项错误；C、化合反应是有两种或两种以上的物质生成一种物质的化学反应，故选项错误；D、复分解反应是两种化合物互相交换成分生成另外两种化合物的反应，故选项错误；故选A
“氢气加热还原四氯化硅”的化学方程式？ （1）反应物是四氯化硅、氢气，生成物是HCl和Si，反应条件是高温，所以反应方程式为SiCl4+2H2Si+4HCl，故答案为：SiCl4+2H2Si+4HCl；（2）2.8kg=2800g，n（Si）=100mol，设需要氢气体积为x，SiCl4+2H2Si+4HCl 44.8L 1mol x 100mol44.8L：1mol=x：100molx=4480L，答：需要消耗氢气体积是4480L．
氢气和什么在加热条件下生成氯化氢和什么 氢气和四氯化硅加热生成硅单质和氯化氢，好像是工业上硅提纯的方法。供参考。
