氮化硅(Si (1)3SiCl 4+4NH 3 Si 3 N 4+12HCl(2)Ri 3 N 4+6H 2 O 3SiO 2+4NH 3↑Si 3 N 4+3O 2 3SiO 2+2N 2(3)Si 3 N 4 与MgO在密闭容器中热处理后，在Si 3 N 4 固体表面形成了一层SiO 2 保护层，阻止了Si 3 N 4 受空气中的氧气和水的侵蚀。解析：(1)SiCl 4 与NH 3 反应生成Si 3 N 4 的同时有HCl生成。反应的化学方程式为3SiCl 4+4NH 3 Si 3 N 4+12HCl。(2)由于Si—O键比Si—N键牢固，Si 3 N 4 与H 2 O反应时，Si—N键要向Si—O键转化，生成SiO 2 的同时应该有NH 3 生成。同样Si 3 N 4 与O 2 反应时，应生成SiO 2 和N 2。化学反应方程式为：Si 3 N 4+6H 2 O 3SiO 2+4NH 3↑；Si 3 N 4+3O 2 3SiO 2+2N 2。(3)Si 3 N 4 与MgO在密闭容器中热处理后使Si 3 N 4 固体表面形成一层SiO 2 保护膜，阻止了Si 3 N 4 继续受空气中的氧和水的侵蚀。
电解熔融三氧化二铝有没有离子方程式 有的话请写出来 三氧化二铝不存在离子方程式，因为这个化合物里只存原子.在但是有电解方程式的.2Al2O3=（通电）2Al+3O2↑
四氯化硅与氢气反应 SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl这是粗硅提纯的最后一步。步骤：1、用焦炭与石英砂（SiO2）混合高温，产生粗硅。（SiO2+2C=高温=Si+2CO）2、将粗硅与氯气高温，生成四氯化硅。（Si+2Cl2=高温=SiCl4）3、将氢气与四氯化硅高温，生成单晶硅。（SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl）
高温下用氢气还原四氯化硅 若混有氧气 后果是什么 因为氢气是可燃性气体，所以与空气或氧气混合后，遇高温或明火可能爆炸
