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请教OLED空穴注入层的问题 oled掺杂的能量传输

2020-10-01知识15

为什么OLED中的TFT采用P型掺杂,而LCD中的TFT多采用N型掺杂呢? TFT-LCD的有源层是a-Si,没有掺杂,本征呈弱N型,其上的n+a-Si层是为了接触。AMOLED(TFT+OLED)的有源层是p-Si,既可以做成P型也可以做成N型,但是一般做成P型的较多,N型的迁移率高。

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oled制作工序中的 离子注入轻掺杂和离子注入重掺杂分别是啥意思 你说的应该是AMOLED制程里面的离子注入掺杂吧,这里的轻与重是按照剂量的多少来划分的,例如P型掺杂的P-和P+,至于轻与重之间的明确界限,好像每个公司都有不同的标准,是一个相对的参考值。

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请教OLED空穴注入层的问题 oled掺杂的能量传输

请教OLED空穴注入层的问题 空穴注入层技术可降低OLED成本和提高其生产效率,是使柔性OLED显示成为商品化的一来个重要因素。空穴注入层在提高效率、延长寿命、降低电压方面的重要自性是不可忽略的。空穴注入层在PLED中的作用是:①使空穴有效注入和通过这两层之间的能量间隙将空穴从zd阳极迁移到LEP(发光聚合体薄层)层;②使阳极表面实现平面化,以防止短路;③大量电子从LEP层流出进入阳极而不产生复合。

影响OLED发光效率的因素有哪些?如何提高OLED的发光效率? 材料有关系,结构也是,界面也有。单材料角度看的话,传输层当然传输效率越高越好,发光材料当然能量转化效率越高越好,主体材料相对掺杂发光材料能带带隙要大,并且HOMO要比其低,LUMO要比其高,要涵盖其能隙范围。但是如果把材料放到一起组合成器件的话,那又不一样,材料之间匹配才行,层与层之间传输势垒要低并且某些层还要具有一定的激子阻挡功能。还有要考虑到两边电子与空穴传输的平衡。材料之间的界面要匹配,这要展开说是不同人干的事,做材料的,做器件的,专门做界面研究的,还有发光那一边的光提取效率也具有重大影响。看你如果是做照明的话,应该追求的功率效率,那你得想办法把工作电压降下来,光强升上去,尽量从不同角度提高你器件的外量子效率。希望对你有所帮助,我也是小鸟。

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