氮化硼和氮化硅区别？
纳米材料的四大效应及其实际意思是什么啊？
氮化合金厂家山东哪家好？ 用二胺分解法合成的氮化硅是无定形态的，需要进一步在1400-1500℃的氮.气下做退火处理才能将之转
氮化硅原件怎么做 题目没怎么看懂，但是我猜测你可能想问怎么制备氮化硅吧，恰好我今年论文题目是这个想关的，我可以发点资料你看看吧是我论文里面的一段，也是在网上插的资料吧，如果你想要更多的，我也可以给你发更多的文献2.1.1 硅粉直接氮化法主要是指纯净硅粉在N2、N2+H2或NH3的还原性气氛中发生反应，生成氮化硅微粉[8-10]。根据反应温度的差异，反应方程式如下：（2.1）此法在较低温度下得到的是α-Si3N4和β-Si3N4的混合物，高温下得到的只有β-Si3N4。该法对硅粉粒径的要求比较高，而且反应温度比较高，对反应设备的耐高温耐高压性能提出了要求。因此，硅粉直接氮化法质量的进一步提高主要取决于碾磨机性能的提高和单质硅性质的改善。而由此方法发展起来的自蔓延高温合成(Self-propagating High-temperature Synthesis，SHs)为硅粉直接氮化法开辟了一条新的思路。2.1.2 碳热还原法碳热还原法是指SiO2和C的粉末在高温下的N2气氛中发生氮化和还原反应，生成Si3N4微粉[11-13]。反应方程式如下：（2.2）虽然目一前人们对此反应的机理还没有探索清楚，但可以确定的是反应中生成了SiO2并由SiO2参与气相反应。产物的组成主要受C/SiO2比、起始物料的结构特征(细颗粒，低的粒径分布和。
世界上有比金刚石还硬的晶体吗？ 金刚石具有稳定的四面体结构，每个碳原子与其邻近四面体各角上排列的原子形成共价键，并且碳原子间的键长…
氮化硅的制备 2.1.1 硅粉直接氮化法主要是指纯净硅粉在N2、N2+H2或NH3的还原性气氛中发生反应，生成氮化硅微粉[8-10].根据反应温度的差异，反应方程式如下：（2.1）此法在较低温度下得到的是α-Si3N4和β-Si3N4的混合物，高温下得到的只有β-Si3N4.该法对硅粉粒径的要求比较高，而且反应温度比较高，对反应设备的耐高温耐高压性能提出了要求.因此，硅粉直接氮化法质量的进一步提高主要取决于碾磨机性能的提高和单质硅性质的改善.而由此方法发展起来的自蔓延高温合成(Self-propagating High-temperature Synthesis，SHs)为硅粉直接氮化法开辟了一条新的思路.2.1.2 碳热还原法碳热还原法是指SiO2和C的粉末在高温下的N2气氛中发生氮化和还原反应，生成Si3N4微粉[11-13].反应方程式如下：（2.2）虽然目一前人们对此反应的机理还没有探索清楚，但可以确定的是反应中生成了SiO2并由SiO2参与气相反应.产物的组成主要受C/SiO2比、起始物料的结构特征(细颗粒，低的粒径分布和晶型)、反应气相的组成和反应温度的控制.可以通过控制CO气流量来达到控制产物生成的速率.这种方法的一个很大的优点就是利用了自然界中十分丰富的二氧化硅为原料，特别适宜于大规模生产氮化硅微粉，且反应产物经热处理后为疏松粉末，。
