玻璃抛光的几种常用方法特点及比较 一、常用的抛光法古典抛光法是一种传统的玻璃冷加工方法，抛光机是采用摩擦轮传动，主轴转速较低，用平面摆动三角架施压，压力靠负荷重量调节.在工作时，负荷的压力始终是铅直向下的，加工平面时上下盘之间的垂直压力是稳定的.而在加工球面时摆动位置不同压力在球心方向的分量也不同，这样就造成上下盘的抛光压力随时变化，增加了球面表面形状不稳定性.抛光膜用松香柏油或毛毡等材料制作，由于抛光膜比较柔软，加工后的表面粗糙度小、表面缺陷小，可以加工较高精度等级的零件.在古典抛光过程中，抛光膜的表面的形状容易变化，需要随时进行修整，这就要求作业人员有较高操作技能，必须经过长期的培训才能掌握，而且生产效率低.在少量和小批量加工中，它有很大的优点，对于抛光机的精度要求低，抛光模的代用率较高，设备、工装夹具的投入费用小。目前中等精度以下大批量生产的光学零件普遍都采用高速抛光的方法进行加工，高速抛光是以高主轴转速、大压力来提高抛光的效率.高速抛光机所使用的设备以准球心的方法设计的，所谓准球心，是在抛光过程中负荷的压力始终指向被加工球面的球心位置.这种设计最大的优点就是，压力从始至终都是在抛光膜和工件接触面的正面施加的。
磁控溅射法制作氧化铈薄膜各种工艺参数。
薄膜的应用参数 三氧化二钇名称：钇（Y）三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8，用作铝保护膜极其受欢迎，特别相对于800-12000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小时暴露于湿气中，一般为颗粒状和片状。透光范围（nm)折射率（N)500nm 蒸发温度（℃）蒸发源 应用 蒸气成分250-8000 1.79 2300-2500 电子枪 防反膜，铝保护膜 名称：二氧化铈（CeO2）使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧化铈，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。透光范围（nm)折射率（N)500nm 蒸发温度（℃）蒸发源 应用 杂气排放量400-16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜，多名称：氧化镁（MgO)必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好的紫外线（UV）穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06，166nm时K值为0.1，n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm-400nm。
