7． 目前生产常用的减反射镀膜是（ ） A. 二氧化钛 B. 五氧化二钽 C. 五氧化二铌 D. 二氧化硅 出这个题的人10年之前还可以，现在就得算脑残按照他10年之前出的题，结果应该是D，主要是单层膜或者还可以选A，D，因为多层AR最常见的也是TIO2和SIO2搭配，如果有个选项E MgF2才应该是比较好的选择但是现在最常用的是广带域的AR，大部分都要用2种以上的材料，而且随着对于膜物理特性要求的增高，A，B，C都已经进入候选，如果你是高中或者刚进入大学的学生，单选选 D吧，多选就选 AD然后告诉你的老师，这个题以后不要出了。
光学镀膜材料哪里收 一氧化硅，二氧化铪，二氧化锆，二氧化钛，一氧化钛，二氧化硅，三氧化二钛 五氧化三钛，五氧化二钽，五氧化二铌，三氧化二铝，三氧化二钪，三氧化二铟 二氧化硅，二钛酸镨。
汽车镀膜种类分为六种，分别可以应用在漆面。真皮。门板。玻璃。塑料件。织物。备注：有效期从1个月至1年不等，施工方式也会随着原料而变化。
光学真空镀膜材料有哪些 一.光学镀膜材料(纯度：99.9%-99.9999%)1.氧化物<；技术指标>；一氧化硅，二氧化铪，二氧化锆，二氧化钛，一氧化钛，二氧化硅，三氧化二钛 五氧化三钛，。
物理镀膜是什么意思
常用的物理镀膜方法有几种
常用的物理镀膜方法有几种 镀膜材料有：一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%）1.高纯氧化物：一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，。
真空镀膜材料生产销售属于什么行业？ 真空镀膜介绍 一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%）高纯氧化物 一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO？二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、Nb2O5，三氧化二铝、Al2O3，三氧化二钪、Sc2O3，三氧化二铟、In2O3，二钛酸镨、Pr(TiO3)2，二氧化铈、CeO2，氧化镁、MgO，三氧化钨、WO3，氧化钐、Sm2O3，氧化钕、Nd2O3，氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化锑、Sb2O3，氧化钒、V2O5，氧化镍、NiO，氧化锌、ZnO，氧化铁、Fe2O3，氧化铬、Cr2O3，氧化铜、CuO等。高纯氟化物 氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、。
常用光学镀膜材料折射率表 最低0.27元开通文库会员，查看完整内容>；原发布者：100度我的文库常用光学镀膜材料折射率名称氟化镁二氧化硅氧化铝一氧化硅二氧化钛五氧化三钛三氧化二钛一氧化钛五氧化二钽氧化铪氧化锆氧化铌氧化镁氧化锌氧化钇氧化铈氟化铈氟化镧氟化钇氟化钡氟化铝冰晶石锥冰晶石硫化锌硒化锌分子式MgF2SiO2Al2O3SiOTiO2Ti3O5Ti2O3TiOTa2O5HfO2ZrO2Nb2O5MgOZnOY2O3CeO2CeF3LaF3YF3BaF2AlF3Na3AlF6Na5Al3F14ZnSZnSe规格1.0-4.0mm颗粒1.0-3.0mm颗粒、柱状1.0-4.0mm颗粒1.0-4.0mm颗粒1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm烧结颗粒1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm晶体颗粒1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒、片状1.0-4.0mm颗粒1.0-4.0mm颗粒1.0-4.0mm颗粒、块状块状折射率1.38/500nm1.46/500nm1.63/550nm1.55/550nm2.35/500nm2.35/500nm2.35/500nm2.35/500nm2.10/500nm1.95/500nm2.05/500nm2.30/550nm1.70/500nm2.0/550nm1.80/500nm2.20/550nm1.63/500nm1.58/500nm1.55/500nm1.40。
镀膜材料常用的都有哪些？ 金属靶材：钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Su、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、碳靶C、钒靶V、锑靶Sb、铟靶In、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、锆靶Zr、铬靶Cr、不锈钢靶材S-S、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge等…稀土金属靶：钇靶Y、镝靶Dy、钬靶Ho、铒靶Er、铥靶Tm、镧靶La、铈靶Ce、镨靶Pr、钕靶Nb、钐靶Sm、铕靶Eu、钆靶Gb、铽靶Tb、镱靶Yb、镥靶Lu等.稀土陶瓷靶：氧化铒Er2O3靶、氧化铥靶Tm2O3、氧化钬靶Ho2O3、氧化铕靶Eu2O3、氧化镧靶La2O3、氧化铈靶CeO2、氧化镨靶Pr6O11、氧化钕Nd2O3、氧化钐靶Sm2O3、氧化钕靶Nd2O3….合金靶材：铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等…陶瓷靶材：ITO靶，一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2，三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、五氧化二钽靶Ta2O5，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化锌靶ZnO、氧化锆靶ZrO、氧化镁靶MgO、单晶硅靶、多晶硅靶.氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、氟化锂靶LiF、氟化钡靶BaF3，碳化硼靶B4。
