tan钽tantalum化学符号Ta，钢灰色金属，在元素周期表中属VB族，原子序数73，原子量180.9479，体心立方晶体，常见化合价为+5。钽是由瑞典化学家埃克贝里(A.G.Ekeberg)在1802。
在真空镀膜中`AR表示什么`
靶材是什么 靶材就是高速荷能粒子轰2113击的目标材5261料，用于高能激光武器中，不同4102功率密度、不同输出1653波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。材质分类：⒈金属靶材镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。⒉陶瓷靶材ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、。
常用的物理镀膜方法有几种 镀膜材料有：一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%）1.高纯氧化物：一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，。
有做氧化铌旋转靶材的大师吗？ 1：我可以做，也可以做旋转靶材绑定.
谁知道`钽铌矿的用处`与价格``？？？？？？？ 谁知道`钽铌矿的用处`与价格``？钽（Ta）铌(Nb)都属于高熔点（钽 2996℃、铌2468℃）、高沸点（钽5427℃、铌5127℃）稀有金属，外观似钢，灰白色光泽，粉末呈深灰色，具有。
氧化铌靶材哪家比较好 莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产高纯金属材料，蒸发镀膜材料以及溅射靶材的高新技术企业应用开发的科技型民营股份制有限公司。拥有多名中高级专业技术人员和专业化应用实验。
常用的物理镀膜方法有几种？
钽块再化成的目的？
