溅射镀膜和蒸发镀膜有什么区别？ 溅射镀膜就是用荷能离子轰击靶材，使靶材表面的一些原子逸出，逸出的原子沉积在靶材附近的固体表面形成薄膜。蒸发镀膜就是将物质加热，达到熔点，再达到沸点，蒸发至基片上。1、溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。2、溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。3、溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。
磁控溅射膜 是什么意思 另外 是不是 金属膜都是采用磁控溅射技术的 一、磁控溅2113射膜1、磁控溅射5261隔热膜又称磁控溅射金属膜，采4102用多层磁控溅射工艺打造1653而成，以持久反射隔热的出色性能而著称。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多特点，一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛，可以制造工业上所需要的各种薄膜。如：超硬薄膜、耐腐蚀耐摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜、隔热膜以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。3、简单的说，磁控溅射隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材，并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上，沉积成金属镀膜层。4、隔热原理：磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在安全基层上，这些金属层会选择性的将阳光中的各种热能源，包括红外线、紫外线及可见光热能反射回去。从而有效祈祷隔热及保护人体及汽车内饰免受紫外线伤害的作用。二、金属膜是采用磁控溅射技术的。三、一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。(2)。
我是一个新手，请问一下溅射镀膜和蒸发镀膜有什 真空镀膜用真空蒸发离溅射真空蒸发镀膜真空度低于10-2Pa环境用电阻加热或电束激光轰击等要蒸发材料加热定温度使材料或原热振能量超表面束缚能使量或原蒸发或升华并直接沉淀基片形薄膜离溅射镀膜利用气体放电产离电场作用高速运轰击作阴极靶使靶材原或逸沉淀镀工件表面形所需要薄膜 真空蒸发镀膜用电阻加热其优点加热源结构简单造价低廉操作便；缺点适用于难熔金属耐高温介质材料电束加热激光加热则能克服电阻加热缺点电束加热利用聚焦电束直接轰击材料加热电束能变热能使材料蒸发激光加热利用功率激光作加热源由于功率激光器造价高目前能少数研究性实验室使用 溅射技术与真空蒸发技术所同溅射指荷能粒轰击固体表面（靶）使固体原或表面射现象射粒呈原状态称溅射原用于轰击靶溅射粒电离或性粒离电场易于加速获所需要能都采用离作轰击粒溅射程建立辉光放电基础即溅射离都源于气体放电同溅射技术所采用辉光放电式所同直流二极溅射利用直流辉光放电；三极溅射利用热阴极支持辉光放电；射频溅射利用射频辉光放电；磁控溅射利用环状磁场控制辉光放电 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比许优点任何物质均溅射尤其高熔点低蒸气压元素化合物；溅射膜与基板间附着性；薄膜密度高；膜厚控制重复。
这种设备算什么真空镀膜？蒸发镀还是溅射镀、离子镀。求相关真空镀膜书籍 多弧离子真空镀膜机
关于蒸发镀和溅射镀？ 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，的确有许多优点。不过，我觉得，热蒸发镀膜成本比溅射低。可以用热蒸发的情况下，用热蒸发划算。
