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中国第四代光刻机 我冒昧的问一下,关于光刻机,中国需要哪些方面的突破?

2020-09-30知识12

中国目前光刻机处于怎样的水平? 对于光刻机来说,目前世界的老大是荷兰的ASML,而且基本处于垄断地位,高端市场只此一家,于是很大人就想当然的认为,光刻机技术含量太高,别人做不了,只有ASML能做,这种说法有一定的道理,但并非其他国家就做不了,主要没人去做高端市场还是因为没有市场的问题限制了!ASML起源于荷兰菲利浦,这公司是家电大企业,曾经一条龙做终端产品、芯片、光刻机,一个完整的产业链。后来慢慢分工,结果芯片做没落了,光刻机却做到了巅峰。光刻机给人的映象就是一台上亿美元,这个看起来很牛,利润空间也很大。如此高利润,为何只有ASML一家独大,其他生产光刻机的企业包括佳能、尼康,中国的上海微电子等,怎么这些就只能涉及低端产业,就没能做出成绩来呢?其实光刻机这个行业相当的苦,全世界做芯片的也就几十家企业,高端的也就那么几家,光刻机一年的市场也就几十亿美元,客户少,稍不留神没有接到订单或者客户被竞争企业抢走了,面临的很可能就是巨额亏损!ASML能够保持今天的垄断地位,主要还是这家公司采用了一种全新的商业模式,与客户进行了捆绑,英特尔、三星、台积电等都是这家公司的大股东,然后他们当然就买自家的产品了,于是像佳能、尼康等企业一看,高端市场已经没有。

中国第四代光刻机 我冒昧的问一下,关于光刻机,中国需要哪些方面的突破?

中国光刻机距离顶尖水平还有较大差距,那么同样关键的蚀刻机处在什么地位? 光刻机和蚀刻机是什么?光刻机与蚀刻机是生产芯片的两大重要机子,可以说一个是魂,另外一个是魄。至于说这两个机子的具体功能是什么呢?最简单的解释就是:光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。这样看起来似乎没什么难的,但是有一个形象的比喻,每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京的线路图都复杂,这就是这光刻和蚀刻的难度。这两者的加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。以16nm的CPU来说,加工尺度为普通人头发丝的五千分之一,加工的精度和重复性要达到五万分之一,更不用说更先进的10nm及7nm的CPU了。我国光刻机的水平我国目前生产光刻机最为先进的企业为上海微电子装备(集团)股份有限公司,这是一家有着国资背景的企业(前两大股东均为国有企业),成立于2002年,至今已有17年的历史,实现了我国光刻机从无到有的地步。光刻机从出现到现在一共历经了五代的发展,现在世界上最新进的光刻机生产企业为荷兰的ASML(阿斯麦),已经可以做到第五代EVU的7nm制程的量产,上海微电子虽然发展速度很快,但是目前只做到了光刻机第四代ArF的90nm制程,且尚无法量产。按量产能力来说差了。

中国第四代光刻机 我冒昧的问一下,关于光刻机,中国需要哪些方面的突破?

中国目前光刻机处于怎样的水平? 我国的光刻机处于低端的水平!全球光刻技术市场如果按照高中低三个档次细分的话,荷兰ASML处于顶端,而日本的尼康和佳能位于中低端位置,而我国的光刻机只能抢夺低端市场份额。1、我国能量产光刻机的制造商我国光刻机系统制造商不少,各厂商中量产光刻机水平最高的是上海微电子,现阶段可以量产90nm制造工作的光刻机,剩下其他厂商如合肥芯硕、无锡影速等只能出200nm的光刻机。这些厂商当中上海微电子成立于2002年,当前生产的光刻机主要应用于各类封装工艺需求(IC后道封装光刻机),以及LED制造(投影光刻机)等行业,整体市场份额还算不错,国内市场封装光刻机能占到80%的份额(虽然是低端领域)。2、上海微电子已攻破65nm工艺90nm工艺对光刻机来说是一道坎,但跨过之后就很容易进发到65nm制造工艺。因此,现阶段的上海微电子已经完成了65nm制造工艺的研发,正在进行验证机型的试验。有消息称目前上海微电子正在攻关最新一道坎,也就是45nm工艺,但也有人称目前在研发28nm相关技术。当然,突破65nm工艺还只是前期工作,想要达到量产的水平还需要一个不短的过程,希望今年能听到这方面的好消息。3、人才和材料缺乏突破我国光刻机水平低是事实,有些人可能会认为拖累我们。

中国第四代光刻机 我冒昧的问一下,关于光刻机,中国需要哪些方面的突破?

国内最先进的光刻机制造企业有哪些? 光刻机的生产公司属于芯片产业中游,其中比较著名的就是荷兰的ASML公司,几乎垄断了光刻机市场80%的份额。我国当前有哪些制造光刻机的公司呢?能够制造光刻机与实现芯片代工生产是两个概念,这里面有两家公司不得不提。其中一家是上海微电子装备公司,另外一家便是中芯国际。上海微电子装备公司是国内光刻机生产制造公司,生产的SSX600系列光刻机可以实现90nm的工艺制程,与ASML公司5nm工艺制程的光刻机确实存在不小的差距。再来说说中芯国际,这是一家芯片代工公司,当前已经具备了14nm工艺制程能力,12nm也进入了测试阶段。值得说明的是,中芯国际花费1.2亿美元从ASML公司预定了一台光刻机,预示着我国芯片代工即将挑战7nm高端工艺制程。

我国的光刻机开发得怎么样了? 中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司(SMEE),它可以做到的最精密的加工制程是90nm,相当于2004…

1965年我国就有光刻机,可今天垄断光刻机的为什么不是中国?

我国能生产光刻机吗?

2020年我国光刻机现在属于什么水平?详细数据,多少纳米? 我国最先进的光刻机是上海微电子的90nm制程工艺光刻机,而荷兰ASML最先进的光刻机是7nm制程工艺,而且5nm制程工艺已经成熟,可以说差了很大一截。上海微和荷兰AMSL光刻机差距,客观反映了我国和西方在精密制造领域的差距,一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方发达国家,美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等等,而这些关键零部件对我国是禁运的。上海微电子是一家系统集成商,自己不能生产所有的关键零部件,没有下游厂商的支持,所以很难生产高端的光刻机,只能先做好中低端,生存下去,一步一步培养国内零部件厂商,一点一点往上做。为什么全球只有ASML能够制造顶级光刻机?目前,光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML,占据了高达80%的市场份额。更关键的是,最先进的EUV光刻机,全球只有ASML能够生产。①ASML出身名门ASML并不是一家白手起家的公司,背后是著名的飞利浦,背后有相关技术人员、经济上的资助。②掌握核心技术ASML拥有世界第二的专利申请数,收购了不少关键零部件下游厂商。除此之外,ASML光刻机的90%零件向外采购,整个设备同时获得了世界最先进的技术,从而在日新月异的芯片制造行业保持了绝对的竞争优势,把世界第二的尼康远远甩在了后面。③独特的。

我冒昧的问一下,关于光刻机,中国需要哪些方面的突破? 回答这个问题,不如先看下当前中国光刻机的现状(2018-2020);我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能(中高端光刻机市场已基本没落)ASML(中高端市场近乎垄断)比差距很大。2018年光刻机制造商的销售情况:2018年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货374台,较2017年的294台增加80台,增长27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收118.92亿欧元,较2017年增长25.21%。从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台。其中ASML出货120台,占有9成的市场。2018年ASML光刻机出货224台,营收达82.76亿欧元,较2017年成长35.74%。其中EUV光刻机营收达18.86亿欧元,较2017年增加7.85亿欧元。EUV光刻机出货18台,较2017年增加7台;ArFi光刻机出货86台,较2017年增加10台;ArF光刻机出货16台,较2017年增加2台;KrF光刻机出货78台,增加7台;i-line光刻机出货26台,和2017年持平。2018年单台EUV平均售价1.04亿欧元,较2017年单台平均售价增长4%。而在2018年一季度和第四季的售价更是高达1.16亿欧元。目前全球知名厂商包括英特尔Intel、三星Samsung、台积电TSMC、SK海力士SK Hynix、联电UMC、格芯GF、中芯国际SMIC、华虹宏力、华力微等等全球一线公司都是ASML。

为什么中国人自己不会做光刻机,它的核心技术是什么? 现在网络媒体往往是用芯片代替半导体、集成电路、晶圆等词汇,严格来说,这些词汇之间还是有所差异的。芯片在这里的用法也跟网络媒体的一致。厂商在制造芯片的过程,其实是个相当复杂的过程,芯片是多个学科共同作用的结晶。厂商在制造芯片的过程中,从前端工序、到晶圆制造工序,之后再到封装和测试工序,主要用到的设备依次包括,单晶炉、气相外延炉、氧化炉、低压化学气相沉积系统、磁控溅射台、光刻机、刻蚀机、离子注入机、晶片减薄机、晶圆划片机、键合封装设备、测试机、分选机和探针台等。其中,厂商必须要利用光刻机,才能把掩模版上的图形(电路结构)临时“复印”到硅片等半导体基材(表面已均匀涂有光刻胶)上,以便开展下一步工序。可以这样说,光刻机在芯片制造工序中是最核心的设备。台积电、三星电子、英特尔等晶圆制造厂商要投产越先进的制程工艺,就必须采用更加精密且复杂的光刻机,对光刻机的要求包括高频率的激光光源、光掩模的对位精度、设备的稳定性等。越是先进的光刻机,便是集合了多领域中的尖端技术于一体。晶圆制造中的七个主生产区。中国上海微电子的光刻机。其实这些年来,国内早就有设备厂商,以及研究机构在对光刻机进行研发。如上海微电子、。

#中国芯片#光刻机#asml

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