讨论：液相沉积法制备二氧化钛薄膜.请阿里巴巴生意经的高手、专家们帮忙看下 我自己的一些观点：1、钛酸异丙酯溶液常温很容易水解，在反应时加入酸或者碱为了抑制其水解cokuke.com，而四氯化钛水溶液常温水解有点困难，做包覆时升温为了促进其水解，。
为什么沉积氮化硅薄膜时要通氮气 不通氮气，“氮化硅”中的“氮”又从何而来呢？气相沉积法 化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括。
液相沉积技术的含义 pecvd等离体增强化气相沉积技术原理利用低温等离体作能量源品置于低气压辉光放电阴极利用辉光放电(或另加发热体)使品升温预定温度通入适量反应气体气体经系列化反应等离体反应品表面形固态薄膜
化学沉积的液相沉积法 Liquid-Phase Deposition(LPD)，是专为制备氧化物薄膜而发展起来的液相外延技术。基本原理是从金属氟化物的水溶液中生成氧化物薄膜的方法，通过添加水、硼酸或者金属Al，使金属氟化物缓慢水解。其中水直接促使生成氧化物，硼酸和铝作为氟离子的捕获剂，促进水解，从而使金属氧化物沉积在基体表面。该法要求对水解反应以及溶液的过饱和度有很好的控制。另外，薄膜的形成过程是在强酸性的溶液中进行的。当前，已可以采用LPD沉积的金属的氧化物有：Ti、Sn、Zr、V、Cd、Zn、Ni、Fe、Al等。整体而言，LPD法工艺简单、成膜速率高、对环境污染小，为功能薄膜的生产开辟了一条新的途径。
谁清楚薄膜电池分类为哪几种
