怎样才能找到含有ITO（氧化铟锡）的废料，大量回收！
氧化铟锡的使用 ITO主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。ITO也被用于各种光学镀膜，最值得注意的有建筑学中红外线-反射镀膜(热镜)、汽车、还有钠蒸汽灯玻璃等。别的应用包括气体传感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。ITO薄膜应力规可以在高于1400°C及严酷的环境中使用，例如气体涡轮、喷气引擎、还有火箭引擎。
氧化铟锡是制作触摸屏的重要材料，氧化铟（In
掺锡氧化铟的制备方法有哪些 中国稀有金属网：1、低电压溅射制备掺锡氧化铟薄膜由于掺锡氧化铟薄膜本身含有氧元素，磁控溅射制备掺锡氧化铟薄膜的过程中，会产生大量的氧负离子，氧负离子在电场的作用下以一定的粒子能量会轰击到所沉积的ITO薄膜表面，使掺锡氧化铟薄膜的结晶结构和晶体状态造成结构缺陷。溅射的电压越大，氧负离子轰击膜层表面的能量也越大，那么造成这种结构缺陷的几率就越大，产生晶体结构缺陷也越严重，从而导致了掺锡氧化铟薄膜的电阻率上升，一般情况下，磁控溅射沉积掺锡氧化铟薄膜时的溅射电压在-400V左右，如果使用一定的工艺方法将溅射电压降到-200V以下，那么所沉积的掺锡氧化铟薄膜电阻率将降低50%以上，这样不仅提高了掺锡氧化铟薄膜的产品质量，同时也降低了产品的生产成本。2、两种在直流磁控溅射制备掺锡氧化铟薄膜时，降低薄膜溅射电压的有效途径：a、磁场强度对溅射电压的影响当磁场强度为300G时，溅射电压约为-350v；但当磁场强度升高到1000G时，溅射电压下降至-250v左右。一般情况下，磁场强度越高、溅射电压越低，但磁场强度为1000G以上时，磁场强度对溅射电压的影响就不明显了。因此为了降低掺锡氧化铟薄膜的溅射电压，可以通过合理的增强溅射阴极的磁场强度来。
氧化铟锡是制作触摸屏的重要材料，它由氧化锡和氧化铟熔融而成．氧化铟（In 考点：有关元素化合价的计算专题：化学式的计算分析：根据在化合物中正负化合价代数和为零，结合化合物的化学式进行解答本题．氧元素显-2价，设钇元素的化合价是x，根据在化合物中正负化合价代数和为零，可得：2x+（-2）×3=0，则x=3价．故选：C．本题难度不大，掌握利用化合价的原则计算指定元素的化合价的方法即可正确解答本题．
氧化铟锡透明导电膜玻璃如何预处理 采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了掺锡氧化铟(ITO)透明导电薄膜，通过XRD、XPS、四探针仪和分光光度计等测试方法，研究了沉积速率对ITO薄膜微观结构和光电性能的影响.实验结果表明：ITO样品为具有(222)择优取向的立方锰铁矿结构，其晶体结构和光电性能明显受到沉积速率的影响.当沉积速率为4 nm/min时，所制备的ITO薄膜具有最大的晶粒尺寸(32.5 nm)、最低的电阻率(1.1×10-3Ω·cm)、最高的可见光区平均透过率(86.4％)和最大的优良指数(7.9×102 S·cm-1)，其光电综合性能最佳.同时采用Tauc法则计算了ITO薄膜的光学能隙，结果
